[发明专利]一种超模光纤及其制备方法

权利要求书

1.一种超模光纤，其特征在于，包括：包层和M个芯簇；

每个所述芯簇包括N个纤芯，所述N个纤芯间隔的设置在所述包层中，所述纤芯的折射率大于所述包层的折射率；

其中，所述纤芯的截面为非圆形，M为大于或等于1的正整数，N为大于1的正整数。

2.根据权利要求1所述的超模光纤，其特征在于，所述纤芯的截面形状为扇形或星形。

3.根据权利要求2所述的超模光纤，其特征在于，所述N个纤芯以圆环形或多边形的形式排列。

4.根据权利要求1至3中任一所述的超模光纤，其特征在于，所述芯簇的外围设有沟壑或气孔。

5.根据权利要求1至4中任一所述的超模光纤，其特征在于，所述包层的外轮廓截面为圆形。

6.根据权利要求1至5中任一所述的超模光纤，其特征在于，所述M个芯簇以圆环形或多边形的形式排列。

7.根据权利要求1至6中任一所述的超模光纤，其特征在于，所述纤芯和所述包层的折射率差大于0.01％、小于10％。

8.根据权利要求1至7中任一所述的超模光纤，其特征在于，在同一芯簇内，相邻两个所述纤芯之间的间隔大于0.1微米、小于10微米。

9.根据权利要求1至8中任一所述的超模光纤，其特征在于，所述N个纤芯所构成的圆形截面的半径大于4微米、小于30微米。

10.根据权利要求1至9中任一所述的超模光纤，其特征在于，所述包层的截面半径大于62.5微米、小于150微米。

11.根据权利要求1至10中任一所述的超模光纤，其特征在于，当M大于1时，相邻两个所述芯簇之间的间距大于10微米、小于200微米。

12.根据权利要求1至11中任一所述的超模光纤，其特征在于，所述超模光纤还包括保护层，所述保护层包覆在所述包层的外周。

13.一种超模光纤的制备方法，其特征在于，包括：

制备芯区预制棒；

在所述芯区预制棒中形成沿第一方向延伸的缝隙；

在所述缝隙内设置内包层，以形成预备料；

在所述预备料的外周设置外包层，以形成待拉制料；

沿第一方向拉制所述待拉制料。

14.根据权利要求13所述的超模光纤的制备方法，其特征在于，形成沿第一方向延伸的缝隙包括：

对所述芯区预制棒进行切割，以形成沿第一方向延伸的缝隙。

15.根据权利要求13或14所述的超模光纤的制备方法，其特征在于，所述内包层为板状结构。