[发明专利]光刻装置及其中的基底传输方法

说明书

本发明公开了一种光刻装置及其中的基底传输方法，所述光刻装置包括工件台以及基底传送装置，所述基底传送装置用于传送基底，所述基底传送装置包括基底传送板叉，所述基底传送板叉包括板叉臂、吸附组件以及驱动组件。所述板叉臂上设置有至少两个吸附组件，通过这种在所述板叉臂上设置多个吸附组件的结构，可在不增加板叉臂长度的基础上实现传送多块基底的功能，有效提高了光刻装置的产率。

技术领域

本发明涉及光刻技术领域，尤其是涉及一种光刻装置及其中的基底传输方法。

背景技术

在光刻机等众多半导体设备中，基底传送进曝光工位时需要经过传输工位进行交接。一般需要在曝光工位前设置一个传输工位，将基底传送到曝光位置。在现有的光刻机中，基底传送板叉大多传送1500mm*1850mm的基底，并不具备传送两块1500mm*925mm基底的能力。限于目前技术水平，产线上蒸镀机最大只能处理1500mm*925mm规格尺寸的基底，为了提高产线整体效率，需要光刻机可以直接曝光出1500mm*925mm的基底。

另外，由于需求的差异或者工艺需要，产线与辊轮台交接每次只进行单块1500mm*925mm基底的传送，这就要求基底传送板叉可以把两块1500mm*925mm基底分两次传送到工件台上。因此，需要基底传送板叉能够往工件台上传送两块1500mm*925mm的基底，进行曝光。为了可以传送两块基底，如果利用现有的技术方案，只能增加板叉臂的长度，这就使得悬臂的总长变大；由于受空间尺寸约束以及较高的运动速度，板叉无法设计调平机构，且悬臂的远端变形较大，难以保证远端吸盘高度一致；而且，加长后的板叉臂会与工件台发生碰撞，将严重损坏工件台或板叉自身。

因此，需要提出一种在不增加板叉臂长度的基础上实现同时传送两块基底的方案。

发明内容

本发明的目的在于提供一种光刻装置及其中的基底传输方法，用于解决现有技术中通过增加板叉臂长度来实现传送两块基底的方案会与工件台发生碰撞，将严重损坏工件台或板叉自身的问题。

为了解决上述技术问题，本发明提出一种光刻装置，包括工件台以及基底传送装置，所述基底传送装置用于传送基底，所述基底传送装置包括基底传送板叉；

所述基底传送板叉包括板叉臂、吸附组件以及驱动组件；

所述驱动组件设置于所述板叉臂上，所述吸附组件设置于所述驱动组件上，所述吸附组件用于吸附或释放所述基底，所述驱动组件用于驱动所述吸附组件以使所述吸附组件位于吸附工位或避让工位，当所述吸附组件位于所述吸附工位时，所述吸附组件吸附所述基底，当所述吸附组件位于所述避让工位时，所述吸附组件释放所述基底；

所述吸附组件的数量为至少两个，至少两个所述吸附组件间隔设置在所述板叉臂上，每个所述吸附组件或至少两个吸附组件配合以吸附或释放一个所述基底；

每个驱动组件用于分别驱动一个对应的所述吸附组件。

可选地，所述工件台上具有若干个工位，所述基底传送板叉用于将基底传送至所述工件台上对应的工位上，或将所述基底从工件台上传送走，或在所述基底未位于对应工位时，移动所述基底以使将所述基底传送到对应工位上。

可选地，所述板叉臂的数量为两个，所述吸附组件沿Y方向布置，所述Y方向与所述板叉臂的延伸方向相同。

可选地，所述驱动组件包括限位板、限位螺钉以及升降气缸；

所述限位板设置在所述安装板上，所述限位螺钉设置所述限位板上以调节所述升降气缸的伸出距离；

可选地，所述吸附组件包括吸盘、吸盘座以及气路接头；

所述吸盘座设置在升降气缸的滑块上，并随所述滑块做升降运动；

所述吸盘设置在所述吸盘座上，并用于吸附所述基底；