[发明专利]二异氰酸酯组合物、其制备方法以及使用其的光学材料

权利要求书

1.一种二异氰酸酯组合物，其包含：

二异氰酸酯；以及

5ppm至200ppm的量的具有甲基基团的异氰酸苄基酯、5ppm至1,000ppm的量的具有卤素基团的芳族化合物、1ppm至1,000ppm的量的具有乙基基团的异氰酸苄基酯、或其组合；

其中，所述具有甲基基团的异氰酸苄基酯包含下式1的化合物，

所述具有卤素基团的芳族化合物包含下式2的化合物，并且

所述具有乙基基团的异氰酸苄基酯包含下式3的化合物：

[式1]

[式2]

[式3]

所述组合物包含基于所述组合物的总重量按重量计99.5％至按重量计小于100％的量的间苯二甲基二异氰酸酯。

2.如权利要求1所述的二异氰酸酯组合物，其中，所述二异氰酸酯包含间苯二甲基二异氰酸酯、对苯二甲基二异氰酸酯、或其混合物，

所述组合物包含基于所述组合物的总重量按重量计大于0％至按重量计0.5％的量的对苯二甲基二异氰酸酯。

3.一种制备二异氰酸酯组合物的方法，其包括：

获得二胺盐酸盐组合物；

处理所述二胺盐酸盐组合物；以及

使用经处理的二胺盐酸盐组合物和三光气获得二异氰酸酯组合物，

其中，在所述二异氰酸酯组合物中，具有甲基基团的异氰酸苄基酯的含量是5ppm至200ppm，具有卤素基团的芳族化合物的含量是5ppm至1,000ppm，或具有乙基基团的异氰酸苄基酯的含量是1ppm至1,000ppm；

其中，所述具有甲基基团的异氰酸苄基酯包含下式1的化合物，

所述具有卤素基团的芳族化合物包含下式2的化合物，并且

所述具有乙基基团的异氰酸苄基酯包含下式3的化合物：

[式1]

[式2]

[式3]

所述组合物包含基于所述组合物的总重量按重量计99.5％至按重量计小于100％的量的间苯二甲基二异氰酸酯。

4.如权利要求3所述的制备二异氰酸酯组合物的方法，其中，获得所述二异氰酸酯组合物的步骤进一步包括蒸馏通过使所述二胺盐酸盐组合物与三光气反应获得的反应生成物，并且所述蒸馏包括在40℃至60℃下2小时至8小时的第一蒸馏和在100℃至120℃下2小时至10小时的第二蒸馏。

5.如权利要求3所述的制备二异氰酸酯组合物的方法，其中，将所述二胺盐酸盐组合物和三光气以1:1至5的当量比引入反应中，并且所述二胺盐酸盐组合物与三光气的反应在110℃至160℃的温度下进行。

6.如权利要求3所述的制备二异氰酸酯组合物的方法，其中，获得二胺盐酸盐组合物的步骤包括使二胺与盐酸水溶液反应，并且将所述二胺和所述盐酸水溶液在20℃至60℃的温度下以1:2至5的当量比引入反应中。

7.如权利要求3所述的制备二异氰酸酯组合物的方法，其中，所述二胺是苯二甲胺，并且所述二异氰酸酯组合物包含苯二甲基二异氰酸酯。

8.一种光学材料，其通过固化包含二异氰酸酯组合物的用于光学材料的可聚合组合物形成，其中，所述二异氰酸酯组合物包含二异氰酸酯和5ppm至200ppm的量的具有甲基基团的异氰酸苄基酯、5ppm至1,000ppm的量的具有卤素基团的芳族化合物、1ppm至1,000ppm的量的具有乙基基团的异氰酸苄基酯、或其组合；

其中，所述具有甲基基团的异氰酸苄基酯包含下式1的化合物，

所述具有卤素基团的芳族化合物包含下式2的化合物，并且

所述具有乙基基团的异氰酸苄基酯包含下式3的化合物：

[式1]

[式2]

[式3]

所述组合物包含基于所述组合物的总重量按重量计99.5％至按重量计小于100％的量的间苯二甲基二异氰酸酯。