[发明专利]制造显示设备的方法

说明书

公开了一种制造显示设备的方法，该方法包括：在基底上形成像素电极；形成像素限定层，像素限定层至少覆盖像素电极的边缘，并且包括使像素电极的一部分暴露的开口；通过将氧气(O₂)添加到像素电极的被像素限定层中的开口暴露的表面来执行第一干法清洗，其中，以在约1200sccm至约3600sccm的范围内的流速添加氧气(O₂)；在第一干法清洗之后执行第二干法清洗；在第二干法清洗之后在像素电极上形成中间层；以及在中间层和像素限定层上形成对电极。

本申请要求于2020年1月6日在韩国知识产权局提交的第10-2020-0001565号韩国专利申请的优先权，该韩国专利申请的公开内容通过引用全部包含于此。

技术领域

本发明的一个或更多个示例性实施例涉及一种制造显示设备的方法，更具体地，涉及一种包括对显示设备的组件执行干法清洗的制造显示设备的方法。

背景技术

显示设备是用于显示数据的设备。显示设备可以用作用于诸如移动电话的小型产品的显示器，或者可以用作用于诸如电视的大型产品的显示器。

通常，显示设备包括接收电信号并基于所接收的电信号发光以向外部显示图像的多个像素。每个像素包括发光器件。例如，有机发光显示设备包括作为发光器件的有机发光二极管。通常，有机发光显示设备包括薄膜晶体管和有机发光二极管，并且有机发光二极管自身发光。

随着显示设备的应用已经多样化，已经尝试了各种设计来提高显示设备的质量。例如，已经在开发包括在显示设备中的具有增加的寿命使用的发光器件。

发明内容

根据本发明的示例性实施例，一种制造显示设备的方法包括：在基底上形成像素电极；形成像素限定层，像素限定层至少覆盖像素电极的边缘，并且包括使像素电极的一部分暴露的开口；通过将氧气(O₂)添加到像素电极的被像素限定层中的开口暴露的表面来执行第一干法清洗，其中，以在约1200sccm至约3600sccm的范围内的流速添加氧气(O₂)；在第一干法清洗之后执行第二干法清洗；在第二干法清洗之后在像素电极上形成中间层；以及在中间层和像素限定层上形成对电极。

在本发明的示例性实施例中，第一干法清洗包括从像素电极的表面去除有机残留物。

在本发明的示例性实施例中，有机残留物包括与像素限定层的材料相同的材料。

在本发明的示例性实施例中，所述方法还包括：在基底上形成平坦化层；形成穿过平坦化层的接触孔；以及对平坦化层和接触孔执行第三干法清洗。

在本发明的示例性实施例中，第一干法清洗的执行与第三干法清洗的执行基本上相同。

在本发明的示例性实施例中，所述方法还包括在第一干法清洗与第二干法清洗之间执行清洗工艺。

在本发明的示例性实施例中，所述方法还包括执行烘箱工艺。

在本发明的示例性实施例中，氧气(O₂)在第一干法清洗期间的流速比氧气(O₂)在第二干法清洗期间的流速大。

在本发明的示例性实施例中，通过以约20sccm或更低的流速添加氧气(O₂)来执行第二干法清洗。

在本发明的示例性实施例中，通过以在约200sccm至约600sccm的范围内的流速添加氮气(N₂)来执行第二干法清洗。

在本发明的示例性实施例中，在第一干法清洗和第二干法清洗期间施加源电力。

在本发明的示例性实施例中，在第一干法清洗期间施加的源电力在约500W至约1500W的范围内，并且在第二干法清洗期间施加的源电力在约300W至约800W的范围内。