[发明专利]等离子体清洗装置和具有该装置的半导体加工器械

权利要求书

1.一种等离子体清洗装置，包括:

金属室，其连接到真空管并具有第一开口，所述真空管连接加工室和真空泵；

闸门组件，其包括闸门支撑件和闸门，所述闸门支撑件围绕所述第一开口固定到所述金属室并具有第二开口，所述闸门联接到所述闸门支撑件并且具有关闭所述第二开口的第一位置和打开所述第二开口的第二位置，所述第一位置和所述第二位置能够彼此切换；

电介质，其围绕所述第二开口联接到所述闸门支撑件的外部；和

高压电极，其位于所述电介质的外表面上，

其中当所述闸门处于所述第二位置时，向所述高压电极施加驱动电压，从而执行等离子体清洗。

2.根据权利要求1所述的等离子体清洗装置，其中：

所述闸门支撑件是板状构件，

所述第二开口位于所述板状构件的中心处，并且

所述闸门包括闸门板、多个传送杆和致动器，所述闸门板位于所述闸门支撑件内，所述多个传送杆固定到所述闸门板并穿过所述闸门支撑件，所述致动器联接到所述多个传送杆中的至少一个。

3.根据权利要求2所述的等离子体清洗装置，其中：

所述闸门板大于所述第二开口，

所述多个传送杆相对于所述闸门支撑件保持密封状态，并且

所述闸门组件接地，使得所述闸门板在所述第二位置起到接地电极的作用。

4.根据权利要求3所述的等离子体清洗装置，其中：

所述电介质包括固定到所述闸门支撑件的管状第一电介质，和封堵所述第一电介质的端部的板状第二电介质，并且

所述高压电极是包围所述第一电介质的管状构件。

5.根据权利要求4所述的等离子体清洗装置，还包括：

网板，其在距所述第一电介质的预定距离处位于所述第二电介质的边缘；电介质盖，所述电介质盖以距所述网板和所述第二电介质的预定距离包围所述网板和所述第二电介质；和清洗气体注入管，所述清洗气体注入管联接到所述电介质盖。

6.根据权利要求3所述的等离子体清洗装置，其中：

一对电介质由一对彼此面对的四边形板构成；所述一对电介质与一对金属支撑件一起形成四边形管；所述一对电介质的端部和所述一对金属支撑件的端部由金属盖密封；并且所述高压电极由四边形板构成。

7.根据权利要求3所述的等离子体清洗装置，其中：

所述闸门支撑件包括包围所述第二开口并向外延伸的第一凸缘；

所述电介质联接到所述第一凸缘；并且

所述电介质和所述高压电极是板状构件。

8.根据权利要求7所述的等离子体清洗装置，还包括：

电介质盖，所述电介质盖紧密接触所述电介质的端部，同时在距所述第一凸缘的预定距离处包围所述第一凸缘；和清洗气体注入管，所述清洗气体注入管联接到所述电介质盖，

其中，使清洗气体通过的至少一个第三开口位于所述第一凸缘中。

9.根据权利要求1所述的等离子体清洗装置，其中：

所述闸门支撑件是包括第一凸缘的板状构件，所述第一凸缘包围所述第二开口并向外延伸；

所述电介质联接到所述第一凸缘；

接地电极位于所述第一凸缘和所述电介质之间；并且

所述闸门在所述接地电极内联接到所述第一凸缘。

10.根据权利要求9所述的等离子体清洗装置，其中：

所述接地电极是管状构件；

所述电介质是一侧开口而另一侧被封堵的管状构件；并且

所述闸门包括闸门板和致动器，所述闸门板形成为对应于所述第二开口的板形状，所述致动器联接到所述闸门板以旋转地或线性地传送所述闸门板。