[发明专利]一种镀制具有偏光效应薄膜的方法

权利要求书

1.一种镀制具有偏光效应薄膜的方法，其特征在于按照以下步骤进行：

首先，在有机或无机的基板表面镀制一层卤化银AgX薄膜，然后将镀膜后的有机或无机的基板放置于光栅掩模板下；在梯度电场的辅助作用下进行曝光处理，基板表面膜层中的卤化银AgX颗粒还原成金属纳米银，最终在基板表层形成沿着光栅定向排布的金属纳米银线栅微结构，所述的卤化银AgX为AgCl、AgI或AgBr；

所述在梯度电场的辅助作用下进行曝光处理具体为：曝光光源波长300nm～400nm，光照时间1-6小时，梯度电场施加方向垂直于有机或无机的基板表面，电场强度沿有机或无机的基板表面镀层指向基板内部呈梯度增加；

金属纳米银线栅微结构中纳米银线栅之间间隔等于光栅掩模板的间隔，间隔从100nm-2um进行调整，对应的偏振光响应的光波段从可见光-近红外-红外光段变化。

2.根据权利要求1所述的一种镀制具有偏光效应薄膜的方法，其特征在于：采用真空电子束蒸发法在有机或无机的基板表面镀制一层卤化银AgX薄膜，具体步骤如下：

首先清洗：将有机或无机的基板放入去离子水中超声清洗，清洗过的基板依次放入丙酮、乙醇、去离子水中超声清洗，将基板表面的污垢清洗干净，最后，将无机或有机的基板取出用去离子水冲洗后晾干待用；

镀膜过程：以高纯卤化银AgX晶体粉末为靶材，采用真空电子束蒸发法进行膜层的制备，设定真空电子束蒸发电压2.5kV、束流4A～6A镀制工艺参数，将无机或有机的基板放置于真空室进行薄膜的沉积，最终在基板表面沉积平均厚度达200～750nm的薄膜。

3.根据权利要求1所述的一种镀制具有偏光效应薄膜的方法，其特征在于：采用真空蒸镀法在有机或无机的基板表面镀制一层卤化银AgX薄膜，具体步骤如下：

首先清洗：将有机或无机的基板放入去离子水中超声清洗，清洗过的基板依次放入丙酮、乙醇、去离子水中超声清洗，将基板表面的污垢清洗干净，最后，将基板取出用去离子水冲洗后晾干待用；

镀膜过程：以高纯卤化银AgX晶体粉末为靶材，采用真空蒸镀法进行膜层的制备，设定蒸镀速率控制在0.3～0.6nm/s之间，将无机或有机的基板放置于真空室进行薄膜的沉积；最终在基板表面沉积平均厚度达200～750nm的薄膜。

4.根据权利要求1所述的一种镀制具有偏光效应薄膜的方法，其特征在于：采用脉冲激光沉积法或磁控溅射法在有机或无机的基板表面镀制一层卤化银AgX薄膜，最终在基板表面沉积平均厚度达200～750nm的薄膜。

5.根据权利要求1所述的一种镀制具有偏光效应薄膜的方法，其特征在于：所述基板材料为玻璃基板或柔性有机材料基板。