[实用新型]一种大垄双行浅沟地膜覆盖结构有效

专利信息
申请号: 202020406711.X 申请日: 2020-03-26
公开(公告)号: CN212232414U 公开(公告)日: 2020-12-29
发明(设计)人: 从治宇;张兴林;孙砳石;薛瑶 申请(专利权)人: 富裕县气象局
主分类号: A01G13/02 分类号: A01G13/02
代理公司: 淮安睿合知识产权代理事务所(普通合伙) 32372 代理人: 汤小东
地址: 161200 黑龙江省*** 国省代码: 黑龙江;23
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摘要:
搜索关键词: 一种 双行 地膜 覆盖 结构
【权利要求书】:

1.一种大垄双行浅沟地膜覆盖结构,其特征在于:包括农田(1),所述农田(1)的上方堆积有第一垄堆(2),所述第一垄堆(2)的顶部开设有两个种植用的浅沟(3),两个所述浅沟(3)的内部均种植有农作物(4),所述第一垄堆(2)的外表面覆盖有第一地膜(5),所述浅沟(3)的深度为十厘米。

2.根据权利要求1所述的一种大垄双行浅沟地膜覆盖结构,其特征在于:所述第一垄堆(2)的纵切面为等腰梯形,且所述第一垄堆(2)纵切面底部的两角的度数范围为六十度至七十度之间。

3.根据权利要求1所述的一种大垄双行浅沟地膜覆盖结构,其特征在于:所述浅沟(3)的纵切面为等腰梯形,且所述浅沟(3)纵切面顶部两角的度数范围为六十度至七十度之间。

4.根据权利要求1所述的一种大垄双行浅沟地膜覆盖结构,其特征在于:所述第一地膜(5)的厚度为0.008mm,所述第一地膜(5)的宽为130cm。

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