[实用新型]一种采血管真空度控制装置

权利要求书

1.一种采血管真空度控制装置，包括真空压塞机主体(1)以及密封箱(2)，其特征在于，所述密封箱(2)安设于所述真空压塞机主体(1)内，所述真空压塞机主体(1)内设置有气压控制结构，所述气压控制结构与所述密封箱(2)相连接，所述密封箱(2)内设置有双向推压结构；

所述气压控制结构包括：排气电磁阀(3)、抽真空电磁阀(4)、真空泵(5)、真空度传感器(6)和控制器(7)，所述密封箱(2)通过管道分别与排气电磁阀(3)、抽真空电磁阀(4)相连，所述真空泵(5)与所述抽真空电磁阀(4)与控制器(7)相连，所述控制器(7)与排气电磁阀(3)相连，所述真空度传感器(6)位于密封箱(2)内，且与控制器(7)相连；

所述双向推压结构包括：顶升控制部以及下压控制部；

所述顶升控制部安设于所述密封箱(2)内，所述下压控制部安设于所述密封箱(2)内，且位于所述顶升控制部上方，顶升控制部以及下压控制部均与所述控制器(7)相连接，所述顶升控制部以及下压控制部之间设置有限位压合组件。

2.根据权利要求1所述的一种采血管真空度控制装置，其特征在于，所述顶升控制部包括：顶升气缸(8)、托板(9)以及四个伸缩杆(10)；

所述顶升气缸(8)固定安设于所述密封箱(2)内，所述顶升气缸(8)的活动端垂直向上，所述托板(9)安设于所述顶升气缸(8)的活动端上，四个所述伸缩杆(10)分别安设于托板(9)的四角位置上，且分别与所述密封箱(2)的下端面相连接。

3.根据权利要求2所述的一种采血管真空度控制装置，其特征在于，所述下压控制部包括：下压气缸(11)、下压板(12)以及两个滑动组件；

所述下压气缸(11)固定安设于密封箱(2)内，所述下压气缸(11)的活动端垂直向下，所述下压板(12)安设于所述下压气缸(11)的活动端上，两个所述滑动组件分别安设于所述密封箱(2)上侧壁面上，且分别与所述下压板(12)侧壁相连接。

4.根据权利要求3所述的一种采血管真空度控制装置，其特征在于，所述滑动组件包括：两个限位导柱(13)以及滑动块(14)，两个所述限位导柱(13)均安设于所述下压板(12)一侧，所述滑动块(14)套装于两个所述限位导柱(13)上，且与所述下压板(12)侧壁相连接。

5.根据权利要求4中所述的一种采血管真空度控制装置，其特征在于，所述限位压合组件包括：采血管托架(15)以及胶塞托架(16)；

所述胶塞托架(16)上放置有若干胶塞，所述采血管托架(15)上放置有若干采血管，所述胶塞托架(16)放置于所述采血管托架(15)上，所述胶塞托架(16)侧壁设置有限位柱(17)，所述采血管托架(15)上开设有放置孔，所述放置孔与所述限位柱(17)相匹配。

6.根据权利要求5所述的一种采血管真空度控制装置，其特征在于，所述采血管托架(15)与所述托板(9)相贴合，所述胶塞托架(16)与所述下压板(12)相贴合。