[实用新型]除垢装置、蒸汽发生装置和蒸汽器具

权利要求书

1.一种除垢装置，其特征在于，包括：

壳体，所述壳体设有出剂口；和

除垢盒，所述除垢盒与所述壳体活动连接，所述除垢盒内形成有至少两个容置腔，每一所述容置腔均设有过口，所述除垢盒相对于所述壳体运动，将其中一所述过口与所述出剂口导通或关闭。

2.如权利要求1所述的除垢装置，其特征在于，所述除垢盒与所述壳体转动连接。

3.如权利要求2所述的除垢装置，其特征在于，所述壳体包括壳底板和连接于所述壳底板的壳侧板，所述壳底板和所述壳侧板围合形成让位空间，所述出剂口设于所述壳侧板，并与所述让位空间连通。

4.如权利要求3所述的除垢装置，其特征在于，所述除垢盒包括：

盒底板；

盒侧板，所述盒侧板和连接于所述盒底板，并与所述盒底板围合形成带有开口的容置空间，所述过口设于所述盒侧板；以及

分隔板，所述分隔板设于所述容置空间内，所述分隔板将所述容置空间分隔为至少两所述容置腔，所述盒侧板抵接于所述壳底板以密封所述开口。

5.如权利要求4所述的除垢装置，其特征在于，所述盒底板凸设有转轴，所述壳底板设有转轴孔，所述转轴转动连接于所述转轴孔，所述转轴与所述转轴孔的连接处还设有密封圈。

6.如权利要求5所述的除垢装置，其特征在于，所述转轴连接于所述转轴孔的端部设有滑动扣，所述滑动扣沿所述转轴的周向设置，所述滑动扣穿过所述转轴孔转动扣接于所述壳底板。

7.如权利要求1所述的除垢装置，其特征在于，所述除垢盒与所述壳体滑动连接。

8.如权利要求1至7中任一所述的除垢装置，其特征在于，所述除垢装置还包括调节件，所述调节件与所述壳体和/或所述除垢盒连接，用以驱动所述除垢盒相对于所述壳体运动，将所述过口与所述出剂口导通或关闭；

且/或，所述壳体和/或所述除垢盒设有可视部，用以显示所述容置腔内存放情况；

且/或，所述壳体和所述除垢盒的外轮廓形状为圆形；

且/或，所述容置腔的数量为四个，每一所述容置腔的容积和形状相同。

9.一种蒸汽发生装置，其特征在于，包括如权利要求1至8中任一所述的除垢装置，还包括蒸汽发生器和与所述蒸汽发生器连通的水箱，所述除垢装置设于所述蒸汽发生器和所述水箱连通的管路上。

10.一种蒸汽器具，其特征在于，包括如权利要求1至8中任一所述的除垢装置；

或者，包括如权利要求9所述的蒸汽发生装置。

11.一种蒸汽器具，其特征在于，包括蒸汽发生器和与所述蒸汽发生器连通的水箱，还包括除垢装置，所述除垢装置设于所述蒸汽发生器和所述水箱连通的管路上，所述除垢装置包括：

壳体，所述壳体设有出剂口；和

除垢盒，所述除垢盒与所述壳体活动连接，所述除垢盒内形成有至少两个容置腔，每一所述容置腔均设有过口；以及

调节件，所述调节件与所述壳体和/或所述除垢盒连接，用以驱动所述除垢盒相对于所述壳体运动，将所述过口与所述出剂口导通或关闭；

所述除垢盒与所述壳体转动连接；

所述壳体包括壳底板和连接于所述壳底板的壳侧板，所述壳底板和所述壳侧板围合形成让位空间，所述出剂口设于所述壳侧板，并与所述让位空间连通，所述调节件连接于所述除垢盒背离所述让位空间的表面，并驱动所述除垢盒于所述让位空间内转动；

所述除垢盒包括：

盒底板；

盒侧板，所述盒侧板和连接于所述盒底板，并与所述盒底板围合形成带有开口的容置空间，所述过口设于所述盒侧板；以及

分隔板，所述分隔板设于所述容置空间内，所述分隔板将所述容置空间分隔为至少两所述容置腔，所述盒侧板抵接于所述壳底板以密封所述开口，所述调节件设于所述盒底板背离所述容置腔的表面；

所述盒底板凸设有转轴，所述壳底板设有转轴孔，所述调节件为旋钮，所述旋钮设于所述盒底板背离所述转轴的表面，所述转轴转动连接于所述转轴孔；

所述转轴与所述转轴孔的连接处还设有密封圈；

所述转轴连接于所述转轴孔的端部设有滑动扣，所述滑动扣沿所述转轴的周向设置，所述滑动扣穿过所述转轴孔转动扣接于所述壳底板。