[实用新型]一种压差开关、气体控制箱和半导体处理设备

说明书

本实用新型涉及等离子体刻蚀的技术领域，公开了一种压差开关、气体控制箱和半导体处理设备，所述压差开关包括至少两个压力探测机构和压力波动阻尼器，所述压力探测机构的其中一个用于探测第一环境中的压力，另外一个用于探测第二环境中的压力；所述压力波动阻尼器置于至少一个所述压力探测机构中，用于过滤短暂的压力波动。将压力管道中偶尔会产生的短暂的压力波动过滤掉，短暂的压力波动并不会造成安全事故，防止压差开关将短暂的压力波动也判断为压力值异常、不达标从而将设备关闭，从而防止影响生产和报废正在刻蚀的晶圆，造成损失；并且，所述压差开关的体积较小，易于集成安装于半导体处理设备中。

技术领域

本实用新型涉及等离子体刻蚀的技术领域，具体涉及一种压差开关、气体控制箱和半导体处理设备。

背景技术

干法刻蚀工艺需要用到各种工艺气体，其中包括可燃气体和有毒有害气体，所以在干法刻蚀的装置外接一个压力管道，防止用到的各种工艺气体外泄，保护操作者的安全，然后要实时监测压力管道内的压力值，压力值也是经过计算并测试，确保即使管路上有气体外泄也不会泄露到干法刻蚀的装置外，所以这个压力值的监测非常重要，一旦压力值不达标，压差开关就会报警，需要切断工艺气体，刻蚀工艺也会因此强制停止。

然而，现有的压差开关只要压力管道内的气压有波动，就会报警。实际上短暂的气压波动并不会引起安全事故，但是却会影响工艺，甚至会报废正在刻蚀的晶圆，从而造成不必要的损失。

常用的压差开关按是否带控制系统分为两类，一种纯机械的压差开关，比如膜片式的压差开关，优点是结构简单小巧，易于安装，且价格低，缺点是对于压力波动特别敏感，极易发生不必要的误报警。另一种是带有延时过滤波动的压差开关，将控制系统和压差开关集合在一起，故此类压差开关的价格极高，并且体积大，不利于集成安装。

因此，迫切需要一种能够过滤掉短暂波动的压力波动，且体积较小，便于集成安装的压差开关。

实用新型内容

鉴于上述的不足之处，本实用新型的目的在于提供一种压差开关、气体控制箱和半导体处理设备，以过滤掉短暂波动，且体积较小，便于集成安装。

为了实现上述目的，本实用新型提供的技术方案为：一种压差开关，包括至少两个压力探测机构和压力波动阻尼器，所述压力探测机构的其中一个用于探测第一环境中的压力，另外一个用于探测第二环境中的压力；所述压力波动阻尼器置于至少一个所述压力探测机构中，用于过滤短暂的压力波动。

进一步地，部分的所述压力探测机构中设置所述压力波动阻尼器。

进一步地，全部的压力探测机构中均设置所述压力波动阻尼器。

进一步地，所述压力波动阻尼器为多孔结构零件。

进一步地，所述多孔结构零件的孔隙率范围为10％至95％。

进一步地，所述多孔结构零件的材料包括泡棉或陶瓷中的至少一种。

进一步地，所述多孔结构零件的长度范围为所述压力探测机构的管径的一倍至填满整个所述压力探测机构。

进一步地，所述压差开关为膜片式的压差开关或不带有过滤波动的压差开关中的一种。

相应的，本实用新型还提供的一种气体控制箱，包括气箱和如上所述的压差管开，所述气箱其包括进气口和出气口，所述出气口与排气管道连接；所述压差开关的其中一个压力探测机构连接到所述排气管道内，另一个所述压力探测机构放置在外界大气中。

进一步地，所述排气管道为负压管道。

进一步地，所述排气管道为正压管道。

相应的，本实用新型还提供的一种半导体处理设备，包括反应腔和如上所述的气体控制箱；所述气体输送管道的一端与所述气体控制箱连接，另一端与所述反应腔连接，用于向所述反应腔内输送气体。