[实用新型]涂胶显影设备

说明书

本实用新型提供了一种涂胶显影设备，包括载体块；接口块；第一工艺模块，设置于所述载体块和所述接口块之间，且包括第一液体处理模块以及设置于所述第一液体处理模块相对两侧的第一热处理模块和第二热处理模块；其中，所述第一热处理模块包括四层层叠设置的第一热处理单元，所述第一液体处理模块包括四层层叠设置的第一液体处理单元，所述第二热处理模块包括四层层叠设置的第二热处理单元，且每一个单元均具有一个相适配的机械手。所述涂胶显影设备中，大幅度减少了单个机械手的搬运行程，增加了相同时间内搬运晶圆的数量，提高了效率。

技术领域

本实用新型涉及涂胶显影技术领域，尤其涉及一种涂胶显影设备。

背景技术

现有技术中，涂胶显影设备内的机械手行程较远，花费的时间长，从而降低了工作效率。

授权号为CN100565343C的中国实用新型专利公开了一种涂敷、显影装置及其方法，

通过层叠二设置抗腐蚀剂膜形成用单位块、和反射防止膜形成用单位块，在抗腐蚀剂膜上下形成反射防止膜时，实现空间节省化。再者，不管是不是在形成反射防止膜的情况下，都可以应对，可以实现这时软件的简易化。在处理块（S2）上，相互层叠而设置作为涂敷膜形成用单位块的TCT层（B3）、COT层（B4）、BCT层（B5）和作为显影处理用的单位块的DEV层（B1、B2）。不管是不是在形成反射防止膜的情况下，通过在TCT层（B3）、COT层（B4）、BCT层（B5）内选择使用的单位块都可以应对，可以抑制这时的运送程序的复杂化，并实现软件的简易化。但其机械手的行程较远，同一机械手在一定时间内搬运的晶圆数量少，导致效率较低。

公开号为CN103199032A的中国实用新型专利公开了一种集束式结构的涂胶显影设备，用以在半导体晶片上获得均布光刻胶及光刻胶图形的涂胶显影设备的结构。本实用新型包括片盒站、工艺站和接口站，片盒站与工艺站通过卸/载料机器人传送晶片，工艺站与接口站通过接口机器人传送晶片，工艺站包括涂光刻胶站和显影站，所述涂光刻胶站和显影站与片盒站和接口站呈一字排列，站内的工艺处理模块呈集束型分布，集束原点分别是用于站内传片的工艺机器人CR和工艺机器人DR。本实用新型实现整机设备占地面积减小，工艺站内工艺模块技术拓展性强，便于标准化模块装载及拆卸，使得不同功能的模块搭配组合简单，不同的生产工艺均可在此设备上实施。但其一个机械手的行程较远，同一机械手在一定时间内搬运的晶圆数量少，导致效率较低。

因此，有必要提供一种新型的涂胶显影设备以解决现有技术中存在的上述问题。

发明内容

本实用新型的目的在于提供一种涂胶显影设备，减少机械手行程，提高效率。

为实现上述目的，本实用新型的所述涂胶显影设备，包括：

载体块；

接口块；

第一工艺模块，设置于所述载体块和所述接口块之间，且包括第一液体处理模块以及设置于所述第一液体处理模块相对两侧的第一热处理模块和第二热处理模块；

其中，所述第一热处理模块包括四层层叠设置的第一热处理单元，所述第一液体处理模块包括四层层叠设置的第一液体处理单元，所述第二热处理模块包括四层层叠设置的第二热处理单元，且每一个单元均具有一个相适配的机械手。

本实用新型的有益效果在于：第一工艺模块包括第一液体处理模块以及设置于所述第一液体处理模块相对两侧的第一热处理模块和第二热处理模块，所述第一热处理模块包括四层层叠设置的第一热处理单元，所述第一液体处理模块包括四层层叠设置的第一液体处理单元，所述第二热处理模块包括四层层叠设置的第二热处理单元，且每一个单元均具有一个相适配的机械手，大幅度减少了单个机械手的搬运行程，增加了相同时间内搬运晶圆的数量，提高了效率。