[实用新型]镀膜装置有效
申请号: | 202022529671.0 | 申请日: | 2020-11-04 |
公开(公告)号: | CN214830632U | 公开(公告)日: | 2021-11-23 |
发明(设计)人: | 宗坚;文毅 | 申请(专利权)人: | 江苏菲沃泰纳米科技股份有限公司 |
主分类号: | C23C14/32 | 分类号: | C23C14/32;C23C14/06;C23C14/50;C23C14/04 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 骆苏华 |
地址: | 214000 江苏省无锡市*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 镀膜 装置 | ||
1.一种镀膜装置,用于对多个待镀膜产品进行镀膜,其特征在于,所述镀膜装置包括一支撑结构、一多层支撑架以及多个支撑面,其中所述多层支撑架被设置于所述支撑结构,多个所述支撑面分别被设置于所述多层支撑架以用于放置所述待镀膜产品,其中所述多层支撑架包括至少一底部支撑架、一中部支撑架以及一顶部支撑架,所述底部支撑架、所述中部支撑架以及所述顶部支撑架之间重叠排列且彼此之间设置有间隔,以使所述底部支撑架、所述中部支撑架以及所述顶部支撑架之间有气流通过,从而提高位于所述底部支撑架、所述中部支撑架以及所述顶部支撑架上的所述待镀膜产品的镀膜均匀性。
2.根据权利要求1所述的镀膜装置,其中多个所述支撑面彼此间隔并垂直地自上而下排布。
3.根据权利要求1所述的镀膜装置,其中所述多层支撑架的底部与所述支撑结构之间设置有间隙。
4.根据权利要求2所述的镀膜装置,其中所述多层支撑架的多个所述支撑面自上而下均匀排布,以提高位于不同的所述支撑面上的所述待镀膜产品的镀膜均匀性。
5.根据权利要求4所述的镀膜装置,其中各所述支撑面被设置为镂空结构。
6.根据权利要求4所述的镀膜装置,其中所述底部支撑架与位于其上并相邻的所述支撑面之间设置有间隙,以使所述底部支撑架与位于其上并相邻的所述支撑面之间有气流通过,从而提高位于所述底部支撑架的所述支撑面上的所述待镀膜产品的镀膜均匀性。
7.根据权利要求6所述的镀膜装置,其中所述底部支撑架与位于其上并相邻的所述支撑面之间的间隙距离被设置为0.5cm-5cm。
8.根据权利要求7所述的镀膜装置,其中所述中部支撑架与位于其上并相邻的所述支撑面之间设置有间隙,以使所述中部支撑架与位于其上并相邻的所述支撑面之间有气流通过,从而提高位于所述中部支撑架的所述支撑面上的所述待镀膜产品的镀膜均匀性。
9.根据权利要求8所述的镀膜装置,其中所述中部支撑架与位于其上并相邻的所述支撑面之间的间隙距离被设置为0.5-5cm。
10.根据权利要求9所述的镀膜装置,其中所述顶部支撑架与位于其上并相邻的所述支撑面之间设置有间隙,以使所述顶部支撑架与位于其上并相邻的所述支撑面之间有气流通过,从而提高位于所述顶部支撑架的所述支撑面上的所述待镀膜产品的镀膜均匀性。
11.根据权利要求10所述的镀膜装置,其中所述顶部支撑架与位于其上并相邻的所述支撑面之间的间隙距离被设置为0.5-5cm。
12.根据权利要求7所述的镀膜装置,其中通过设置至少一四氟块螺丝于所述底部支撑架而获得所述底部支撑架与位于其上并相邻的所述支撑面之间的间隙。
13.根据权利要求7所述的镀膜装置,其中具有至少一第一进料口和一第二进料口,所述第一进料口和所述第二进料口分别被朝向所述多层支撑架设置,其中所述第一进料口被设置为靠近所述顶部支撑架,所述第二进料口被设置为靠近所述底部支撑架。
14.根据权利要求13所述的镀膜装置,其中所述支撑结构包括至少一支架,所述支架上设置有两个所述第一进料口,两个所述第一进料口分别被对称设置于靠近所述顶部支撑架的两侧并靠近所述顶部支撑架中最上层的所述支撑面。
15.根据权利要求14所述的镀膜装置,其中所述支架上设置有两个所述第二进料口,两个所述第二进料口分别被对称设置于靠近所述底部支撑架的两侧并靠近所述底部支撑架中最上层的所述支撑面。
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