[实用新型]一种单晶硅导流装置有效
申请号: | 202022558732.6 | 申请日: | 2020-11-09 |
公开(公告)号: | CN213925119U | 公开(公告)日: | 2021-08-10 |
发明(设计)人: | 韩永龙;杨延生;高生全;何旭;余圈珠 | 申请(专利权)人: | 阳光能源(青海)有限公司 |
主分类号: | C30B15/00 | 分类号: | C30B15/00;C30B29/06 |
代理公司: | 青海省专利服务中心 63100 | 代理人: | 李玉青 |
地址: | 810000 青海*** | 国省代码: | 青海;63 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 单晶硅 导流 装置 | ||
本实用新型公开了一种单晶硅导流装置,包括:导流罩、导流筒、水冷屏、挂接机构;挂接机构包括:上连接臂、挂钩、横杆、下连接臂;所述的挂钩水平固定在横杆上,横杆一端垂直连接上连接臂,横杆另一端垂直连接下连接臂;导流罩中心开孔成圆盖状;水冷屏为上下开口的圆台形空腔结构;导流罩底部两侧分别与一个挂接机构的上连接臂连接;两侧的挂接机构的下连接臂与水冷屏上部内侧壁连接;导流筒为上下开口的空腔结构,导流筒位于水冷屏外围;螺栓孔上设置螺栓;螺栓挂接在导流罩底部两侧挂接机构的挂钩上。设置挂接机构有效的将导流筒、导流罩、水冷屏三者连接在一起,减小了导流罩与导流筒的间隙,提高了拉晶一次成晶率与单晶整根率。
技术领域
本实用新型涉及单晶硅制造技术领域,具体涉及一种单晶硅导流装置。
背景技术
在单晶的拉制过程中,氩气由上而下吹入硅液表面,因为各石墨件之间以及石墨件与炉体之间存在一定的缝隙,氩气会再次由下而上携带杂质从缝隙处进入液面,因此会影响单晶的成晶以及热场的稳定,产生旁路。现有的技术中采用导流罩,导流罩的使用可以弥补石墨件之间的缝隙,并且可以挡住因旁路产生的氩气进入液面,使液面更加洁净和稳定。但是现有的导流罩在安装时不能合理固定导流罩、水冷屏及导流筒,其固定结构复杂,安装拆卸不方便,存在导流罩与导流筒间隙过大的现象,使拉晶一次成晶率与单晶整根率受到影响,成品率较低。
实用新型内容
针对现有技术中的问题,本实用新型提供了一种单晶硅导流装置,该;
为实现本实用新型的目的,本实用新型采用以下技术方案:
一种单晶硅导流装置,包括:导流罩、导流筒、水冷屏、挂接机构;所述的挂接机构包括:上连接臂、挂钩、横杆、下连接臂;所述的挂钩水平固定在横杆上,横杆一端垂直连接上连接臂,横杆另一端垂直连接下连接臂;所述的导流罩中心开孔成圆盖状;水冷屏为上下开口的圆台形空腔结构;导流罩底部两侧分别与一个挂接机构的上连接臂连接;两侧的挂接机构的下连接臂与水冷屏上部内侧壁连接;导流筒为上下开口的空腔结构,导流筒位于水冷屏外围,导流筒上端开口处对称设置两个带有螺栓孔的连接部;螺栓孔上设置螺栓;螺栓挂接在导流罩底部两侧挂接机构的挂钩上。
优选的,所述的挂钩一侧斜向开设豁口;带有豁口的一侧边沿向上弯折形成凹槽;所述的螺栓挂接在豁口处。
优选的,所述的导流筒由外壁、内壁组成的筒状结构,内壁将导流筒内侧围成一个上下开口的圆台形空腔结构。
本实用新型与现有技术相比,具有以下有益效果:
该装置带有导流罩可以弥补石墨件之间的缝隙,并且可以挡住因旁路产生的氩气进入液面,使液面更加洁净和稳定;设置挂接机构有效的将导流筒、导流罩、水冷屏三者连接在一起,减小了导流罩与导流筒的间隙,提高了拉晶一次成晶率与单晶整根率。
附图说明
图1是本实用新型一种单晶硅导流装置的结构示意图;
图2是本实用新型一种单晶硅导流装置除导流筒以外的结构示意图;
图3是本实用新型一种单晶硅导流装置的挂接机构的结构示意图;
图4是本实用新型一种单晶硅导流装置的导流筒的剖视图;
图中:导流罩1、导流筒2、水冷屏3、上连接臂4、挂钩5、连接部6、螺栓7、下连接臂8、外壁21、内壁22、横杆51。
具体实施方式
下面将结合本实用新型实施例中的附图;对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述:
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