[实用新型]一种毛刷自清洗装置

说明书

本申请公开了一种毛刷自清洗装置。该自清洗装置包括升降组件、旋转组件、摆臂机构、毛刷自转组件和储液机构。升降组件为旋转组件提供升降的动力。旋转组件为摆臂机构提供旋转的动力。摆臂机构的一端连接第二连接轴的上端，其另一端连接毛刷。毛刷自旋转机构为毛刷自清洗时提供旋转的动力。储液机构用于储存清洗液。在晶圆清洗的过程中，通过升降组件上升旋转组件，通过摆臂机构抬升毛刷，通过旋转组件的旋转使毛刷正对储液机构，最后再通过升降组件将毛刷下降至清洗液中，最后毛刷自旋转机构使毛刷旋转来完成毛刷的自清洗。在晶圆清洗的过程中适时的对毛刷进行清洗，能够有效确保晶圆的良好品质，提高企业的工作效率，节约人力和时间。

技术领域

本实用新型涉及清洗设备技术领域，尤其涉及一种毛刷自清洗装置，用于在晶圆清洗过程中清洗毛刷。

背景技术

随着高新科技的大力发展以及国际关系不确定性的增加，目前我国的半导体技术、LED技术以及摄像头技术等均得到了快速的发展，对产品的性能要求也越来越高。

其中，大部分半导体元件、LED元件以及第三代化合物半导体元件在光刻后，都会有光刻胶溢到晶圆的表面。在这些高精尖产品中，即使少许的沾污都会影响到下一道工序的品质。一般情况下是通过毛刷清洗这些沾污，但是在清洗的过程中毛刷自身也容易受到污染。通过毛刷可能造成不同产品间的交叉污染，降低产品的品质，而随时清洗毛刷又需要大量的时间和人力，制约企业的工作效率。

实用新型内容

本实用新型的主要目的在于提供一种毛刷自清洗装置，能够在晶圆清洗过程中根据需要清洗毛刷，工作效率高，能够有效确保晶圆的品质。

本实用新型的另一目的在于提供一种毛刷自清洗装置，在晶圆清洗过程中通过升降组件和旋转组件能够适时的升降并旋转毛刷，使毛刷得到有效清洗，提高工作效率，节约时间和人力成本。

本实用新型的另一目的在于提供一种毛刷自清洗装置，通过滑轨和滑块的配合能够有效稳固所述旋转组件的升降。

本实用新型的另一目的在于提供一种毛刷自清洗装置，通过弧形止位槽和止动块的配合能够有效限位毛刷的旋转，在晶圆清洗和毛刷清洗之间快速切换，提高工作效率。

本实用新型的另一目的在于提供一种毛刷自清洗装置，通过第二传感器和第二感应元件的配合能够使毛刷更快地伸入储液机构内进行清洗。

本实用新型的另一目的在于提供一种毛刷自清洗装置，通过在清洗过程中使毛刷自动旋转能够彻底清洗所述毛刷，有效提高所述毛刷的清洗效果。

本实用新型的另一目的在于提供一种毛刷自清洗装置，通过在储液槽设置进液口和出液口来更换不同的清洗液可以更快的适配不同产品的清洗要求，提高清洗液的更换速度。

为实现本实用新型以上至少一个目的，本实用新型提供一种毛刷自清洗装置，用于在晶圆清洗过程中清洗毛刷，其中所述自清洗装置包括：

一升降组件；

一旋转组件，其中所述旋转组件包括一旋转主体，其中所述旋转主体被可升降的连接于所述升降组件；

一摆臂机构，其中所述摆臂机构的其中一端被固定连接于所述旋转主体的上端，所述摆臂机构的另一端连接所述毛刷；

一储液机构，用于储存清洗液，其中所述储液机构具有一清洗口，且所述储液机构与所述摆臂机构相配合被固定设置于预定的位置，以在所述毛刷被升降以及旋转后可直接穿过所述清洗口于所述清洗液内完成清洗；和

一毛刷自转组件，所述毛刷自转组件与所述摆臂机构相配合，以在预定的位置带动所述毛刷自动旋转。