[实用新型]一种化学刻蚀和显影专用的花篮

说明书

本实用新型提供一种化学刻蚀和显影专用的花篮，属于刻蚀花篮技术领域，该化学刻蚀和显影专用的花篮包括花篮主体，所述花篮主体的内侧壁开设有放置槽，所述花篮主体的一侧开设有刻蚀口，所述花篮主体的外表面开设有滑槽，所述滑槽的内部活动连接有放置板。该化学刻蚀和显影专用的花篮，通过滑槽、放置板、拨板、活动孔和隔板的设置，在使用时，先拨动拨板将放置板移动在滑槽的顶端，再将刻蚀元件放置在放置槽内，向下拨动拨板使刻蚀元件完全进入刻蚀花篮内，再将隔板推进活动孔内后放进刻蚀液中，刻蚀完成后，推开隔板向上拨动拨板使刻蚀元件从花篮主体伸出，避免了夹持元件造成的破坏，大大提高了工作效率。

技术领域

本实用新型属于刻蚀花篮技术领域，具体涉及一种化学刻蚀和显影专用的花篮。

背景技术

光刻是半导体器件制造工艺中的一个重要步骤，该步骤利用曝光和显影在光刻胶层上刻画几何图形结构，然后通过刻蚀将光掩模上的图形转移到所在衬底上，刻蚀最常用分为：干法刻蚀和湿法刻蚀，湿法刻蚀是一个纯粹的化学反应过程，是指利用溶液与预刻蚀材料之间的化学反应来去除未被掩蔽膜材料掩蔽的部分而达到刻蚀目的。

湿法刻蚀通常将所需刻蚀器件先固定在刻蚀花篮中再放入刻蚀液中浸泡，而现有的刻蚀花篮固定和取出不方便，在刻蚀后常常会破坏元件，造成损失，并且排气散热不好，当刻蚀元件在刻蚀液中会放出热量和气体，容易造成腐蚀不均匀现象。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种化学刻蚀和显影专用的花篮，旨在解决现有技术中取出不方便，在刻蚀后常常会破坏元件，排气散热不好，腐蚀不均匀的问题。

为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种化学刻蚀和显影专用的花篮，包括花篮主体，所述花篮主体的内侧壁开设有放置槽，所述花篮主体的一侧开设有刻蚀口，所述花篮主体的外表面开设有滑槽，所述滑槽的内部活动连接有放置板，所述放置板的一侧固定连接有拨板，所述花篮主体的一侧开设有活动孔，所述活动孔的内部活动连接有隔板，所述隔板的一侧固定连接有辅助块。

为了使得该一种化学刻蚀和显影专用的花篮达到放置方便的目的，作为本实用新型一种优选的，所述放置板和拨板的数量均为两个。

为了使得该一种化学刻蚀和显影专用的花篮达到耐高温抗氧化的作用，作为本实用新型一种优选的，所述花篮主体的材质为聚四氟乙烯。

为了使得该一种化学刻蚀和显影专用的花篮达到散热导流的效果，作为本实用新型一种优选的，所述花篮主体的正面和背面均开设有导流孔。

为了使得该一种化学刻蚀和显影专用的花篮达到便于取出的作用，作为本实用新型一种优选的，所述花篮主体上表面的两侧固定连接有固定块。

为了使得该一种化学刻蚀和显影专用的花篮达到固定发方便的目的，作为本实用新型一种优选的，所述固定块的一侧开设有固定孔。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：

1、该化学刻蚀和显影专用的花篮，通过滑槽、放置板、拨板、活动孔和隔板的设置，在使用时，先拨动拨板将放置板移动在滑槽的顶端，再将刻蚀元件放置在放置槽内，向下拨动拨板使刻蚀元件完全进入刻蚀花篮内，再将隔板推进活动孔内后放进刻蚀液中，刻蚀完成后，推开隔板向上拨动拨板使刻蚀元件从花篮主体伸出，避免了夹持元件造成的破坏，大大提高了工作效率。

、该化学刻蚀和显影专用的花篮，通过刻蚀口和导流孔的设置，将花篮主体放入刻蚀液后，刻蚀口能很好的增加散热速度，避免了刻蚀过程中散热和排气不畅造成的刻蚀不均匀，刻蚀完后成取出时，导流孔能增大刻蚀液的流出，避免可刻蚀液体表面张力对刻蚀元件的损伤。

附图说明

附图用来提供对本实用新型的进一步理解，并且构成说明书的一部分，与本实用新型的实施例一起用于解释本实用新型，并不构成对本实用新型的限制。在附图中：

图1为本实用新型的正视结构示意图；