[实用新型]一种硅片碱腐蚀翻新循环一体化装置

说明书

本实用新型公开了一种硅片碱腐蚀翻新循环一体化装置，包括用于对硅片进行碱腐蚀的碱溶液腐蚀槽、用于添加翻新剂的碱翻新反应槽以及用于去除沉淀物的沉淀过滤槽，所述碱溶液腐蚀槽与碱翻新反应槽单向连接，将待翻新的碱溶液输送至碱翻新反应槽，同时所述碱翻新反应槽中的碱溶液完成翻新反应后，通过沉淀过滤槽与所述碱溶液腐蚀槽连接，实现对硅片碱腐蚀时的碱溶液翻新循环；本实用新型结构简单，实施成本低，有力改善了硅片碱腐蚀的工作环境，而且可有效节约硅片碱腐蚀的工艺成本、提高持续腐蚀的能力以及腐蚀工艺的一致性。

技术领域

本实用新型涉及硅片碱腐蚀工艺领域，具体涉及一种硅片碱腐蚀翻新循环一体化装置。

背景技术

公开号为CN111211049A的发明专利公开了一种硅片碱腐蚀工艺及其应用，采用可与水发生反应且生成翻新碱的翻新剂,且翻新碱可与SiO₃^2-发生反应生成可采用分离方法去除的不溶于水的硅酸盐，用于实现对碱性水溶液的翻新，通过翻新使得碱性水溶液的碱浓度维持不低于其预设最低值的状态或延长其维持不低于碱浓度的预设最低值的时间；且同时通过翻新实现将碱性水溶液的SiO₃^2-反应转换为不溶于水的硅酸盐，使得SiO₃^2-的浓度减少；该技术通过翻新碱技术明显改善长时间处于强碱性溶液的操作环境、减少强碱的消耗和废液的产生，进而显著地降低了工艺的物料和环境成本；同时可以明显提升本发明硅片碱腐蚀的工艺质量，而且可以有效减少产线的停机时间，提高生产能力和生产效率。

由于以上翻新碱技术通常采用金属氧化物作为翻新原料，因而在进行翻新应用时不可避免地会发生沉淀物，当用于硅片的碱腐蚀槽内的沉淀物累积到一定量时显然会影响腐蚀质量和腐蚀效率，因此，在碱溶液翻新的同时实现对沉淀物的分离去除也是决定硅片碱翻新腐蚀工艺的实施质量和效率的关键技术，而且该技术问题也是CN111211049A所提出对硅片进行碱翻新技术基础上所引起的特定技术问题，在常规的硅片碱腐蚀设备中没有相关参考技术或参考案例。

因此，基于以上，本申请人希望寻求特定的翻新装置来更好地实施硅片的碱翻新腐蚀工艺路线。

实用新型内容

有鉴于此，本实用新型的目的在于提供一种硅片碱腐蚀翻新一体化装置，结构简单，实施成本低，有力改善了硅片碱腐蚀的工作环境，而且可有效节约硅片碱腐蚀的工艺成本、提高持续腐蚀的能力以及腐蚀工艺的一致性。

本实用新型采用的技术方案如下：

一种硅片碱腐蚀翻新循环一体化装置，包括用于对硅片进行碱腐蚀的碱溶液腐蚀槽、用于添加翻新剂的碱翻新反应槽以及用于去除沉淀物的沉淀过滤槽，所述碱溶液腐蚀槽与碱翻新反应槽单向连接，将待翻新的碱溶液输送至碱翻新反应槽，同时所述碱翻新反应槽中的碱溶液完成翻新反应后，通过沉淀过滤槽与所述碱溶液腐蚀槽连接，实现对硅片碱腐蚀时的碱溶液翻新循环。

优选地，所述碱溶液腐蚀槽、沉淀过滤槽和碱翻新反应槽成排设置，所述沉淀过滤槽与位于其两侧的碱溶液腐蚀槽和碱翻新反应槽之间分别设有用于分隔的第一溢流堰和第二溢流堰，所述第二溢流堰的高度小于碱翻新反应槽的高度且大于第一溢流堰的高度。

优选地，所述第一溢流堰和第二溢流堰通过焊接固定安装在其所在的碱溶液腐蚀槽或碱翻新反应槽内。

优选地，所述碱溶液腐蚀槽与第一溢流堰之间设有用于均匀溢出的第一挡板，所述沉淀过滤槽与第二溢流堰之间设有用于均匀溢出的第二挡板。

优选地，所述第一挡板的高度大于第一溢流堰的高度，所述第二挡板的高度大于第二溢流堰的高度，所述第一挡板和第二挡板通过焊接固定安装在其所在的碱溶液腐蚀槽或碱翻新反应槽内，且挡板底部与其对应的槽底之间具有间距。

优选地，所述沉淀过滤槽具有一个或多个呈分隔状的槽室，形成一级或多级沉淀过滤单元。