[实用新型]一种用于光电零部件的脉动蒸汽真空清洗箱有效
申请号: | 202023080018.7 | 申请日: | 2020-12-17 |
公开(公告)号: | CN214600615U | 公开(公告)日: | 2021-11-05 |
发明(设计)人: | 何淑英 | 申请(专利权)人: | 广州市鸿浩光电半导体有限公司 |
主分类号: | B08B3/02 | 分类号: | B08B3/02;B08B13/00;B01D46/10 |
代理公司: | 厦门仕诚联合知识产权代理事务所(普通合伙) 35227 | 代理人: | 蔡稷元 |
地址: | 511300 广东省广州市*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 用于 光电 零部件 脉动 蒸汽 真空 清洗 | ||
本实用新型为一种用于光电零部件的脉动蒸汽真空清洗箱,包括机体,所述机体包括控制箱以及箱门,所述机体的内部设有清洗腔,所述清洗腔上设有放置板,所述放置板设有通孔,所述清洗腔的内壁上设有真空检测器,所述控制箱包括真空泵以及蒸汽发生器,所述控制箱的顶端设有进气口以及真空口,所述真空泵的底端设有传输管,所述蒸汽发生器的底端设有蒸汽进气管,所述进气口上设有过滤层,通过真空泵将清洗腔内部的空气进行排出,通过电磁阀打开进气口,使空气通过过滤层进行净化,使净化后的空气通过蒸汽发生器进行转化蒸汽,蒸汽通过蒸汽进气口进入清洗腔内部,蒸汽通过通孔使多个放置板上的物体进行蒸汽清洗。
技术领域
本实用新型涉及半导体加工设备技术领域,具体为一种用于光电零部件的脉动蒸汽真空清洗箱。
背景技术
众所周知,现有的半导体技术领域使用的零部件,往往对清洁度、表面均匀度、工艺稳定性的要求较高,微小的杂质和尘埃,不均匀的颗粒大小都会影响半导体的性能,因此在半导体领域内清洗、打磨、除杂等工序是非常重要的一系列技术,很多工艺需要经过对现有的设备进行非标定制才能满足其使用要求,传统的清洗是有机化学溶剂或试剂,对有机残留进行溶解后处理。
如对比公开专利“CN208928675U”名为“用于光电零部件的脉动蒸汽真空清洗箱”,包括清洗箱、蒸汽管路、真空装置、控制器,所述清洗箱内设置载物层,载物层上布置载物盘,载物盘内放置光电零部件,清洗箱上部以夹层通有蒸汽入口管、下部开有真空管;所述蒸汽管路包括蒸汽发生器和主阀、第一压力表、过滤器、流量控制阀、止回阀,最终连接到蒸汽入口管,止回阀末端伸出支管连接疏水阀,在清洗箱上方还连接有与清洗腔连通的第二真空表;所述抽气装置包括连接真空管的真空泵,所述真空泵的电机、第二真空表、流量控制阀电连接控制器,该清洗箱不方便工作人员将内部的真空进行快速泄压,导致需通过真空泵泄压,等待较长时间,不方便操作,影响生产效率。
实用新型内容
(一)解决的技术问题
针对现有技术的不足,本实用新型提供了一种方便操作,效率高,
用于光电零部件的脉动蒸汽真空清洗箱。
(二)技术方案
为实现上述目的,本实用新型提供如下技术方案:一种用于光电零部件的脉动蒸汽真空清洗箱,包括机体,所述机体包括控制箱以及箱门,所述箱门与所述机体之间设有铰链连接,所述机体的内部设有清洗腔,所述清洗腔上设有放置板,所述放置板设有多个,所述放置板设有通孔,所述通孔贯穿所述放置板,所述清洗腔的内壁上设有真空检测器,所述机体的一侧设有泄压口,所述泄压口连通所述清洗腔,所述泄压口上设有电磁阀,所述控制箱安装在所述机体的顶端,所述控制箱包括真空泵以及蒸汽发生器,所述真空泵以及蒸汽发生器均安装在所述控制箱的内部,所述控制箱的顶端设有进气口以及真空口,所述真空泵的底端设有传输管,所述传输管连通所述清洗腔,所述真空泵连通所述传输管以及真空口,所述蒸汽发生器的底端设有蒸汽进气管,所述蒸汽进气管连通所述清洗腔,所述蒸汽发生器连通所述进气口以及蒸汽进气管,所述进气口上设有过滤层,所述控制箱的一侧设有控制面板,所述控制面板与所述真空检测器、电磁阀、真空泵以及蒸汽发生器之间设有电路线连接。
为了方便工作人员控制进气,本实用新型改进有,所述进气口的内部设有进气阀,所述控制面板与所述进气阀之间设有电路线连接。
为了防止空气灰尘进入内部,影响清洗效率,本实用新型改进有,所述真空口的内部设有防尘网。
为了更快的引导蒸汽进行内部,本实用新型改进有,所述蒸汽进气管的内部设有导风扇,所述导风扇设有转动电机,所述控制面板与所述转动电机之间设有电路线连接。
为了方便工作人员观察清洗状态,本实用新型改进有,所述机体的一侧设有观察窗。
为了使观察窗能够承受真空压力,本实用新型改进有,所述观察窗上设有多层玻璃。
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