[发明专利]半导体激光装置以及半导体激光元件在审

专利信息
申请号: 202080015701.6 申请日: 2020-01-23
公开(公告)号: CN113454857A 公开(公告)日: 2021-09-28
发明(设计)人: 小野将之;左文字克哉;西川透;浅香浩;西辻充;山田和弥 申请(专利权)人: 新唐科技日本株式会社
主分类号: H01S5/0234 分类号: H01S5/0234;H01S5/40
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人: 吕文卓
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 半导体 激光 装置 以及 元件
【说明书】:

半导体激光装置(200)具备以结倒置的方式来安装的半导体激光元件(100),半导体激光元件(100)包括分离形成在基板(1)上的第1发光元件区域(81)和第2发光元件区域(82)。在半导体激光元件(100),第1发光元件区域(81)和第2发光元件区域(82)分别具有以n型半导体层(2)、活性层(3)、p型半导体层(4)的顺序依次层叠的层叠结构体(500)。第1发光元件区域(81)具有被配置在n型半导体层(2)上的第1电极膜(10a)。第2发光元件区域(82)具有被p型半导体层(4)上的第2电极膜(11b)。第1电极膜(10a)第2电极膜(11b)电连接。

技术领域

本公开涉及半导体激光装置以及半导体激光元件。

背景技术

以往公开了一种具有多个发光元件区域的半导体激光阵列元件等半导体激光元件(例如,参照专利文献1)。

专利文献1中公开的构成是,半导体激光阵列元件的各自的发光元件区域并联且电连接。因此,在专利文献1公开的半导体激光阵列元件的各自的发光元件区域中被并行地注入电流。

(现有技术文献)

(专利文献)

专利文献1日本特开平11-220204号公报

然而,在专利文献1公开的构成中存在的课题是,由于多个发光元件区域并联连接,因此驱动电流过大。

发明内容

本公开提供一种抑制了半导体激光元件的驱动电流的半导体激光装置等。

本公开的一个形态所涉及的半导体激光装置具备以结倒置的方式来安装的半导体激光元件,所述半导体激光元件包括分离形成在基板上的第1发光元件区域和第2发光元件区域,在所述半导体激光元件中,所述第1发光元件区域以及所述第2发光元件区域分别具有层叠结构体,在该层叠结构体中,以一导电型半导体层、活性层、以及另一导电型半导体层的顺序来层叠,所述第1发光元件区域具有被配置在所述一导电型半导体层上的第1电极膜,所述第2发光元件区域具有被配置在所述另一导电型半导体层上的第2电极膜,所述第1电极膜与所述第2电极膜电连接。

并且,本公开的一个形态所涉及的半导体激光元件具有层叠结构体,在该层叠结构体中,以一导电型半导体层、活性层、以及另一导电型半导体层的顺序,依次在基板上层叠,所述半导体激光元件具有:将所述层叠结构体分隔而形成的第1发光元件区域和第2发光元件区域;以及被配置在所述第1发光元件区域的所述一导电型半导体层上的第1电极膜、和被配置在所述第2发光元件区域的所述另一导电型半导体层上的第2电极膜,所述第1电极膜与所述第2电极膜电连接,在所述第1发光元件区域与所述第2发光元件区域之间配置分离区域,该分离区域使所述第1发光元件区域的所述一导电型半导体层与所述第2发光元件区域的所述一导电型半导体层隔开,在所述分离区域中,在所述基板设置有槽部,在所述第1发光元件区域的所述一导电型半导体层与所述基板之间配置有电流阻止层。

通过本公开的一个形态所涉及的半导体激光装置等,半导体激光元件的驱动电流得到抑制。

附图说明

图1是示出实施方式1所涉及的半导体激光元件的截面图。

图2是示出实施方式1所涉及的半导体激光装置的截面图。

图3是示出实施方式1的变形例1所涉及的半导体激光元件的截面图。

图4是示出实施方式2所涉及的半导体激光元件的截面图。

图5是示出实施方式2所涉及的半导体激光装置的截面图。

图6是示出实施方式2的变形例1所涉及的半导体激光装置的截面图。

图7是示出实施方式3所涉及的半导体激光元件的截面图。

图8是示出实施方式3所涉及的半导体激光装置的截面图。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于新唐科技日本株式会社,未经新唐科技日本株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202080015701.6/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top