[发明专利]测距方法、测距装置以及程序

权利要求书

1.一种测距方法，包括如下工序：

在对物体照射背景光的环境下对所述背景光的照度进行测光；

基于所述背景光的照度来设定测距范围；

基于所设定的测距范围来设定包含分别具有APD即雪崩光电二极管的多个像素在内的摄像部的摄像条件以及使光源出射光的出射条件；和

通过基于所设定的所述摄像条件以及所述出射条件控制所述摄像部以及所述光源来进行与所述物体的距离的测定。

2.根据权利要求1所述的测距方法，其中，

对所述背景光的照度进行测光的工序包含如下工序：

不使用向所述物体出射光的所述光源而仅以所述背景光曝光所述摄像部；

在仅以所述背景光使所述摄像部曝光的状态下取得所述多个像素的雪崩倍增的发生次数；和

基于被预先数据化的表示背景光的照度与雪崩倍增的发生次数的对应关系的照度信息和所述多个像素的雪崩倍增的发生次数来算出所述背景光的照度。

3.根据权利要求2所述的测距方法，其中，

在取得所述多个像素的雪崩倍增的发生次数的工序中，取得所述多个像素当中至少2个以上像素的雪崩倍增的发生次数，

在算出所述背景光的照度的工序中，基于所取得的所述2个以上像素的雪崩倍增的发生次数的平均值来算出所述背景光的照度。

4.根据权利要求2所述的测距方法，其中，

在取得所述多个像素的雪崩倍增的发生次数的工序中，取得所述多个像素当中全部像素的雪崩倍增的发生次数，

在算出所述背景光的照度的工序中，基于所取得的所述全部像素的雪崩倍增的发生次数的平均值来算出所述背景光的照度。

5.根据权利要求1～4中任一项所述的测距方法，其中，

在设定所述测距范围的工序中，基于被预先数据化的表示背景光的照度与测距范围的对应关系的表格信息来设定测距范围。

6.根据权利要求5所述的测距方法，其中，

所述表格信息包含：第1表格信息；和与所述第1表格信息相比背景光的照度与测距范围的对应关系不同的第2表格信息，

在基于所述表格信息来设定测距范围的工序中，选择所述第1表格信息以及所述第2表格信息当中一方的表格信息，基于所选择的表格信息来设定测距范围。

7.根据权利要求6所述的测距方法，其中，

在基于所述表格信息来设定测距范围的工序中，根据使所述光源出射光的情况下的所述多个像素各自的雪崩倍增的发生次数和不使所述光源出射光的情况下的所述多个像素的雪崩倍增的发生次数来算出从所述光源出射的光由所述物体反射而得到的光的照度相对于所述背景光的照度的比即S/N比，基于算出的所述S/N比来选择所述第1表格信息以及所述第2表格信息当中一方的表格信息，基于所选择的表格信息来设定测距范围。

8.根据权利要求6或7所述的测距方法，其中，

所述第1表格信息中的相对于背景光的照度的测距范围在表示照度的第1阈值与表示比所述第1阈值高的照度的第2阈值之间的照度下，将相对于背景光的照度的测距范围设定得比所述第2表格信息中的相对于背景光的照度的测距范围更长，

基于所述表格信息来设定测距范围的工序包含如下工序：

在所述背景光的照度低于所述第1阈值时，基于所述第1表格信息来设定测距范围；和

在所述背景光的照度高于所述第2阈值时，基于所述第2表格信息来设定测距范围。

9.根据权利要求6～8中任一项所述的测距方法，其中，

在对所述背景光进行测光的工序中，多次执行使所述摄像部曝光的曝光处理，在每次所述曝光处理中取得所述多个像素各自的雪崩倍增的发生次数，基于所取得的每次所述曝光处理的所述多个像素各自的雪崩倍增的发生次数的平均值来重复算出所述背景光的照度，

在基于所述表格信息来设定测距范围的工序中，基于重复算出的所述背景光的照度的变化来选择所述第1表格信息以及所述第2表格信息当中一方的表格信息，基于所选择的表格信息来设定测距范围。