[发明专利]控制microRNA表达的方法

权利要求书

1.一种在宿主细胞中从包括以下结构的初级microRNA(pri-miRNA)产生单切割前体microRNA(pre-miRNA)的方法：

其中[B]至[b]以5’至3’方向形成茎环结构，并且

其中：

基序[B]和[b]各自构成茎区域中的切割位点；

基序[C]构成环区域；

所述方法包括：

a)在基序[B]上游和/或基序[b]下游的区域中引入一个或更多个突变以产生包含以下结构的遗传修饰的初级microRNA(pri-miRNA)：

其中基序[A]和[a]构成茎区域中的不对称内环(AIL)区域；

b)将来自步骤b)的遗传修饰的初级microRNA(pri-miRNA)转染至所述宿主细胞；

其中所述单切割前体microRNA(pre-miRNA)是通过在基序[B]处切割产生的。

2.一种在宿主细胞中从包括以下结构的初级microRNA(pri-miRNA)产生单切割前体microRNA(pre-miRNA)的方法：

其中[A]至[a]以5’至3’方向形成茎环结构，

并且其中：

基序[A]和[a]构成茎区域中的不对称内环(AIL)区域；

基序[B]和[b]各自构成茎区域中的切割位点；

基序[C]构成环区域；

所述方法包括：

a)在基序[A]和[a]中之一或二者处引入一个或更多个突变以调节所述不对称内环(AIL)区域的尺寸；

b)将来自步骤b)的初级microRNA(pri-miRNA)转染至宿主细胞；

其中所述单切割前体microRNA(pre-miRNA)是通过在基序[B]处切割产生的。

3.一种在宿主细胞中从包含以下结构的初级microRNA(pri-miRNA)增加单切割前体microRNA(pre-miRNA)的产生水平并减少双切割前体microRNA(pre-miRNA)的产生水平的方法：

其中[B]至[b]以5’至3’方向形成茎环结构，

并且其中：

基序[B]和[b]各自构成茎区域中的切割位点；

基序[C]构成环区域；

所述方法包括：

a)在基序[B]上游和/或基序[b]下游的区域中引入一个或更多个突变以产生包含以下结构的遗传修饰的初级microRNA(pri-miRNA)：

其中基序[A]和[a]构成茎区域中的不对称内环(AIL)区域；

b)将来自步骤b)的遗传修饰的初级microRNA(pri-miRNA)转染至所述宿主细胞；

c)通过控制在基序[B]和[b]中之一或二者处的切割，产生单切割前体microRNA(pre-miRNA)和双切割前体microRNA(pre-miRNA)中之一或二者；

其中所述单切割前体microRNA(pre-miRNA)是通过在基序[B]处切割产生的；

其中所述双切割前体microRNA(pre-miRNA)是通过在基序[B]和[b]处切割产生的。