[发明专利]感光化射线性或放射线性树脂组合物、图案形成方法、抗蚀剂膜及电子器件的制造方法

权利要求书

1.一种感光化射线性或放射线性树脂组合物，其含有酸分解性树脂及特定化合物，

所述特定化合物具有2个以上的阳离子部位及与所述阳离子部位相同数量的阴离子部位，所述阳离子部位中的至少1个具有由通式(I)表示的基团，

*-Ar^x-(RI)_ni (I)

通式(I)中，*表示键合位置，

Ar^x表示芳香族烃环基，

ni表示1以上的整数，

RI表示不具有阳离子性官能团的取代基。

2.根据权利要求1所述的感光化射线性或放射线性树脂组合物，其中，

所述特定化合物具有选自由通式(II)表示的有机阳离子、由通式(III)表示的有机阳离子及由通式(IV)表示的有机阳离子中的1种以上的有机阳离子，

通式(II)中，Ar¹、Ar²及Ar³分别独立地表示任选地具有取代基的芳香族烃环基，

Ar¹、Ar²及Ar³中的至少1个表示包含具有-CF₃的取代基的芳香族烃环基，

其中，Ar¹、Ar²及Ar³均不包含具有阳离子性官能团的取代基，

通式(III)中，Ar⁴、Ar⁵及Ar⁶分别独立地表示任选地具有取代基的芳香族烃环基，

Ar⁴、Ar⁵及Ar⁶中的至少2个表示具有取代基的芳香族烃环基，

所述具有取代基的芳香族烃环基中的至少1个表示作为取代基具有氟原子的芳香族烃环基，

Ar⁴、Ar⁵及Ar⁶中的至少2个表示不同结构的基团，

其中，Ar⁴、Ar⁵及Ar⁶均不包含具有阳离子性官能团的取代基，

通式(IV)中，Ar⁷、Ar⁸及Ar⁹分别独立地表示任选地具有取代基的芳香族烃环基，

Ar⁷、Ar⁸及Ar⁹中的至少1个表示作为取代基具有选自烷基及多环的环烷基中的1种以上的特定烃基的芳香族烃环基，

其中，Ar⁷、Ar⁸及Ar⁹均不包含具有阳离子性官能团的取代基，

并且，Ar⁷、Ar⁸及Ar⁹均不包含具有氟原子的取代基。

3.根据权利要求2所述的感光化射线性或放射线性树脂组合物，其中，

所述通式(II)中，Ar¹、Ar²及Ar³中的至少2个表示具有取代基的芳香族烃环基。

4.根据权利要求1至3中任一项所述的感光化射线性或放射线性树脂组合物，其中，

所述特定化合物具有阴离子部位A_B^-，所述阴离子部位A_B^-为由通式(BX-1)～(BX-4)中的任意者表示的基团，

通式(BX-1)～(BX-4)中，*表示键合位置，

通式(BX-1)～(BX-4)中，R^B表示有机基团。