[发明专利]半导体装置、储层计算系统以及半导体装置的制造方法在审

专利信息
申请号: 202080099700.4 申请日: 2020-04-15
公开(公告)号: CN115428166A 公开(公告)日: 2022-12-02
发明(设计)人: 河口研一;高桥刚 申请(专利权)人: 富士通株式会社
主分类号: H01L29/06 分类号: H01L29/06;H01L21/329;H01L29/88;H01L29/861;H01L29/868
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 金雪梅
地址: 日本神*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 半导体 装置 计算 系统 以及 制造 方法
【说明书】:

本发明提供半导体装置,具有:多个隧道二极管,分别具备第一导电型的第一半导体区域和设置在上述第一半导体区域上且具有纳米线的形状的第二导电型的第二半导体区域;绝缘膜,覆盖上述第二半导体区域的侧面;多个第一电极,分别与上述第一半导体区域连接;以及多个第二电极,分别与上述第二半导体区域连接,上述第二电极具有第一面,上述第一面隔着上述绝缘膜与上述第二半导体区域的侧面对置,在上述多个隧道二极管之间,上述第二半导体区域的直径不同。

技术领域

本公开涉及半导体装置、储层计算系统以及半导体装置的制造方法。

背景技术

为了提供一种利用人工智能(artificial intelligence)的先进的信息处理服务,正在开发一种面向AI的计算系统。正在开发通过采用受生物体的神经模型启发的神经模态计算来实现这样的系统的动作。其中,由于储层计算能够进行时间序列信息处理,所以作为提高动画识别、预测等AI的技术被期待。在储层计算系统中,使用被称为储层电路的包含非线性特性不同的多个非线性元件的网络型的电路。

专利文献1:日本特开平8-213561号公报

专利文献2:日本特开2011-238909号公报

专利文献3:日本特表2015-529006号公报

非专利文献1:Extended Abstracts of the 2019International Conference onSolid State Devices and Materials,Nagoya,2019,pp195-196

难以以较高的集成度配置非线性特性不同的多个非线性元件。

发明内容

本公开的目的在于提供一种能够以较高的集成度配置非线性特性不同的多个非线性元件的半导体装置、储层计算系统以及半导体装置的制造方法。

根据本公开的一个方式,提供一种半导体装置,具有:多个隧道二极管,分别具备第一导电型的第一半导体区域和设置在上述第一半导体区域上且具有纳米线的形状的第二导电型的第二半导体区域;绝缘膜,覆盖上述第二半导体区域的侧面;多个第一电极,分别与上述第一半导体区域连接;以及多个第二电极,分别与上述第二半导体区域连接,上述第二电极具有第一面,上述第一面隔着上述绝缘膜与上述第二半导体区域的侧面对置,在上述多个隧道二极管之间,上述第二半导体区域的直径不同。

根据本公开,能够以较高的集成度配置非线性特性不同的多个非线性元件。

附图说明

图1是表示第一实施方式的半导体装置的剖视图。

图2是表示动作时的第一实施方式的半导体装置的剖视图。

图3是表示纳米线的电压-电流特性的图。

图4是表示第一实施方式的半导体装置的制造方法的剖视图(其1)。

图5是表示第一实施方式的半导体装置的制造方法的剖视图(其2)。

图6是表示第一实施方式的半导体装置的制造方法的剖视图(其3)。

图7是表示第一实施方式的半导体装置的制造方法的剖视图(其4)。

图8是表示第一实施方式的半导体装置的制造方法的剖视图(其5)。

图9是表示第一实施方式的半导体装置的制造方法的剖视图(其6)。

图10是表示第一实施方式的半导体装置的制造方法的剖视图(其7)。

图11是表示第一实施方式的半导体装置的制造方法的剖视图(其8)。

图12是表示第一实施方式的半导体装置的制造方法的剖视图(其9)。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于富士通株式会社,未经富士通株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202080099700.4/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top