[发明专利]一种无闪点防眩光玻璃制作方法

说明书

本发明提供了一种新型无闪点防眩光玻璃制作方法，与现有技术相比，本发明采用成膜结合酸蚀及化学抛光的方法，在镜面玻璃表面形成具有均匀分布结晶体的膜层，该膜层在酸蚀的过程中，酸液通过膜层中的结晶体间隙逐渐渗透到玻璃表面进行侵蚀，并且结晶区域和非结晶区域与酸液侵蚀速率存在一定的速率差，通过调控酸蚀及化学抛光程度，最终形成凸凹不平的粗糙表面，达到雾化效果。

技术领域

本发明属于防眩光玻璃制作领域，具体涉及一种无闪点防眩光玻璃制作方法。

背景技术

防眩光(anti-glare，AG)是指在镜面玻璃表面经过特殊工艺处理，形成凸凹不平的粗糙表面，造成哑光、低反射效果，从而可以降低环境光的干扰，提高显示画面的可视角度和亮度，缓和屏幕反光，让图像更清晰，色彩更艳丽，颜色更饱和，从而显著改善显示效果。

同时，由于5G 技术和无线充电的深入推广，显示屏交互性能的开发，玻璃手机后盖、黑板以及滑鼠板运用越来越广泛。防眩光玻璃由于具有显著提升显示效果、粗糙的表面利于书写、良好的触摸手感等特点，可满足市场的大量需求。已广泛用于电视拼接墙、户外超大显示屏、平板电视、背投电视、液晶显示器、触摸屏、工业仪表、高级像框、滑鼠板、手机后盖等领域。

但是，现有的AG生产工艺主要采用蒙砂液中颗粒物作为遮掩体，在生产过程中将蒙砂液附着在玻璃表面，在颗粒物的作用下，玻璃表面与蒙砂液中氢氟酸的反应速率不一致，从而获得粗糙的表面。进一步，通过化学抛光后得到所需的光泽度、雾度等光学值的产品。该方法可以满足低粗糙度、低雾度、高光泽度的需求，但是由于蒙砂工艺需要精确地控制，蒙砂液中颗粒物要分布均匀，否则会造成蚀刻不均的现象，因此蒙砂材料开发难度高，生产工艺要求高，产品特性管控难度大。同时，由于蒙砂液中颗粒物大小不易控制，会有蚀刻颗粒跨度过大而造成闪点等不良现象。

发明内容

本发明的目的在于提供一种无闪点防眩光玻璃制作方法，采用成膜结合酸蚀的方法，首先在镜面玻璃表面形成具有结晶体的膜层，膜层中结晶区域和非结晶区域纳米尺度相间，膜层中结晶区域尺寸也在纳米尺寸范围内；其次该膜层在酸蚀的过程中，酸液通过膜层中的结晶体间隙逐渐渗透到玻璃表面进行侵蚀，并且结晶区域和非结晶区域与酸液侵蚀速率存在一定的速率差，最终通过调控酸蚀程度，形成凸凹不平的粗糙表面，达到雾化效果。

本发明具体技术方案如下：

一种无闪点防眩光玻璃制作方法，包括以下步骤：

1）在镜面玻璃表面成膜；

2）步骤1）处理后的玻璃进行酸蚀和化学抛光。

步骤1）所述成膜是指通过在镜面玻璃表面形成膜层作为遮掩体；

步骤1）中所述成膜加工方式，包括但不限于磁控溅射、气相沉积、喷涂、狭缝涂布或压印。

所述成膜物质包括但不限于金属氧化物、金属有机化合物或非金属氧化物优选为ITO、TiO₂、V₂O₅、ZrO₂、Nb₂O₅、Si₃N₄、SiC、SiO₂、有机锆、有机硅或有机钛。所述成膜的膜层厚度为0.1-10 μm。

所述成膜，膜层中结晶区域和非结晶区域相间的，间隔距离1-100 nm；膜层中结晶区域尺寸1-100 nm范围内。

更优选的，步骤1）中所述成膜为在镜面玻璃表面制备ITO膜层，具体制备方法为：以镜面玻璃为基板，在真空环境下，用平面磁控溅射技术沉积ITO，得到膜厚均匀、结晶体与非结晶区域纳米尺度相间的膜层。本发明所述ITO膜层，采用的是在线连续式高温磁控溅射薄膜制备技术，平面磁控溅射技术是在真空条件下实现等离子放电，利用电磁场控制带电粒子的运动，轰击被镀膜ITO材料，从而在玻璃基板上沉积所需要的薄膜。