[发明专利]一种低反射率的低辐射镀膜玻璃及其制备方法

说明书

本发明公开一种低反射率的低辐射镀膜玻璃及其制备方法，该低反射率的低辐射镀膜玻璃包括玻璃基层、功能层、保护膜层、吸收层、第二介质层和第三介质层，所述功能层位于所述玻璃基层的一侧；所述保护膜层位于所述功能层远离所述玻璃基层的一侧；所述吸收层位于所述玻璃基层与所述功能层之间，所述吸收层用于吸收太阳光，所述吸收层包括至少三层保护层；所述第二介质层和所述第三介质层分别位于两所述保护层之间。本发明技术方案降低了低辐射镀膜玻璃的反射率。

技术领域

本发明涉及玻璃技术领域，特别涉及一种低反射率的低辐射镀膜玻璃及其制备方法。

背景技术

随着玻璃幕墙在高层建筑中的大规模应用，符合节能环保要求的低辐射镀膜玻璃(Low-E玻璃)备受推崇。低辐射镀膜玻璃具有良好的隔热性能和遮阳性能，既能满足室内采光的要求，又能阻隔太阳辐射进入室内，减少室内空调的荷载。然而，目前低辐射镀膜玻璃(Low-E玻璃)的反射率普遍较高，因此造成建筑玻璃的镜面反光现象十分严重，使得光污染成为继废气、废水、废渣和噪声等污染之后的一种新的环境污染源。

发明内容

本发明的主要目的是提供一种低反射率的低辐射镀膜玻璃及其制备方法，旨在降低低辐射镀膜玻璃的反射率。

为实现上述目的，本发明提出的一种低反射率的低辐射镀膜玻璃，包括玻璃基层、功能层、保护膜层、吸收层、第二介质层和第三介质层，所述功能层位于所述玻璃基层的一侧；所述保护膜层位于所述功能层远离所述玻璃基层的一侧；所述吸收层位于所述玻璃基层与所述功能层之间，所述吸收层用于吸收太阳光，所述吸收层包括至少三层保护层；所述第二介质层和所述第三介质层分别位于两所述保护层之间。

在一实施例中，所述保护层为NiCr层、Cr层或Cu层的一种或两种。

在一实施例中，所述吸收层包括从所述玻璃基层到所述功能层依次设置的第一保护层、第二保护层和第三保护层，所述第一保护层为NiCr层。

在一实施例中，所述低反射率的低辐射镀膜玻璃还包括第四保护层，所述第四保护层位于所述功能层与所述保护膜层之间，所述第四保护层为NiCr层、Cr层或Cu层的一种或两种。

在一实施例中，所述低反射率的低辐射镀膜玻璃还包括第一介质层，所述第一介质层位于所述玻璃基层与所述第一保护层之间；所述第二介质层位于所述第一保护层与所述第二保护层之间；所述第三介质层位于所述第二保护层与所述第三保护层之间。

在一实施例中，所述第一介质层和/或所述保护膜层为SiNx层，SiNx中x的范围是0.50至1.33；所述第一介质层的厚度为25nm～35nm，所述保护膜层的厚度为30nm～48nm。

在一实施例中，所述第二介质层和/或所述第三介质层为ZnAlOx层和ZnSnOx层的一种或两种；所述第二介质层的厚度为36nm～47nm，所述第三介质层的厚度为38nm～52nm。

在一实施例中，所述第一保护层的厚度为6nm～14nm，所述第二保护层的厚度为6nm～14nm，所述第三保护层的厚度为2nm～5nm，所述第四保护层的厚度为2nm～5nm。

在一实施例中，所述功能层为Ag层，所述Ag层的厚度为5nm～14nm。

本发明还提出一种低反射率的低辐射镀膜玻璃的制备方法，用于制备上述低反射率的低辐射镀膜玻璃，该制备方法包括如下步骤：在真空环境下用靶材对玻璃基层表面进行真空磁控溅射，依次溅射形成吸收层、第二介质层、第三介质层、功能层和保护膜层，其中，所述吸收层包括至少三层保护层，所述第二介质层和所述第三介质层分别位于两所述保护层之间。