[发明专利]光掩膜盒及其防尘方法有效

专利信息
申请号: 202110422068.9 申请日: 2021-04-20
公开(公告)号: CN113387062B 公开(公告)日: 2023-05-30
发明(设计)人: 刘子汉;温志伟;林重宏 申请(专利权)人: 台湾积体电路制造股份有限公司
主分类号: B65D85/07 分类号: B65D85/07;B65D51/16;B65D53/00
代理公司: 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 代理人: 李春秀
地址: 中国台湾新竹市*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 光掩膜盒 及其 防尘 方法
【权利要求书】:

1.一种光掩膜盒,其包括:

容器,其具有内部;及

流体调节模块,其安装到所述容器,其中所述流体调节模块具有经配置用于允许流体行进通过所述流体调节模块的开口,且所述流体调节模块包括密封膜;

其中当所述流体沿朝向所述容器的所述内部的方向进入所述流体调节模块时,所述密封膜覆盖所述开口以不允许所述流体进入所述容器的所述内部;

其中当所述流体沿远离所述容器的所述内部的方向进入所述流体调节模块时,所述密封膜远离所述开口以允许所述流体从所述容器的所述内部排放,

其中所述流体调节模块进一步包括:

第一盖,包含第一基座部分及连接到所述第一基座部分的第一横向部分;及

第二盖,包含第二基座部分及连接到所述第二基座部分的第二横向部分,所述第二横向部分连接所述第一横向部分,且所述第二盖经定位成比所述第一盖更接近所述容器的所述内部,所述开口形成于所述第二盖的所述第二基座部分的内表面上,其中所述密封膜定位于所述第一盖与所述第二盖之间,且当所述流体沿朝向所述容器的所述内部的方向进入所述流体调节模块时,所述密封膜接触所述第二盖的所述第二基座部分的所述内表面。

2.根据权利要求1所述的光掩膜盒,其中当所述密封膜覆盖所述开口时,所述密封膜具有与所述第二盖的所述第二基座部分的所述内表面的保形形状。

3.根据权利要求1所述的光掩膜盒,其中在所述第二盖的所述第二基座部分的所述内表面上形成至少一个沟槽,且当所述密封膜覆盖所述开口时,将所述密封膜的一部分接纳于所述沟槽中。

4.根据权利要求1所述的光掩膜盒,其中所述第一横向部分及所述第二横向部分在所述流体调节模块的纵向方向上延伸且所述第一横向部分及所述第二横向部分中的每一者包括接合结构,通过所述接合结构,所述第一盖及所述第二盖可卸离地彼此连接。

5.根据权利要求1所述的光掩膜盒,其进一步包括相邻于所述流体调节模块定位的过滤器。

6.根据权利要求1所述的光掩膜盒,其中所述容器包括:

基座,其中所述流体调节模块安装到所述基座;及

上壳体,其定位于所述基座上。

7.根据权利要求6所述的光掩膜盒,其中在所述基座上形成贯穿孔,且所述流体调节模块定位于所述贯穿孔中。

8.根据权利要求1所述的光掩膜盒,其中所述密封膜包含定位销,所述第一盖的所述第一基座部分具导引孔,当所述流体沿朝向所述容器的所述内部的方向进入所述流体调节模块时,所述定位销沿所述导引孔在所述流体调节模块的纵向方向自由移动。

9.一种光掩膜盒,其包括:

容器;及

流体调节模块,其安装到所述容器且包括:

第一盖及第二盖,其彼此连接,其中在所述第一盖与所述第二盖之间形成流动路径以允许流体行进通过所述流体调节模块;及

密封膜,其定位于所述第一盖与所述第二盖之间且经配置用于调节行进通过所述流动路径的所述流体的流动,

所述流动路径包括第一片段及第二片段,所述第一片段与形成在所述第一盖的第一开口连通且定位于所述密封膜与所述第一盖之间,所述第二片段与形成在所述第二盖的第二开口连通且定位于所述密封膜与所述第二盖之间,所述第二片段经由所述第二开口与所述容器的内部连结,其中通过控制所述密封膜在平行于所述流体调节模块的纵向方向的方向上的移动而敞开或闭合所述流动路径的所述第二片段而调节行进通过所述流动路径的所述流体的所述流动。

10.根据权利要求9所述的光掩膜盒,其中所述第二盖经定位成比所述第一盖更接近所述容器的所述内部,且所述流动路径的所述第二片段敞开时,所述密封膜朝向远离所述第二盖的方向弯曲,使出口气流依序流动通过所述第二开口、所述流动路径的所述第二片段、所述流动路径的所述第一片段、所述第一开口从所述容器的所述内部排放。

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