[发明专利]使用过氧化氢沉积薄膜的设备在审
| 申请号： | 202110555363.1 | 申请日： | 2021-05-21 |
| 公开（公告）号： | CN113699508A | 公开（公告）日： | 2021-11-26 |
| 发明（设计）人： | L.罗德里格斯 | 申请（专利权）人： | ASMIP私人控股有限公司 |
| 主分类号： | C23C16/455 | 分类号： | C23C16/455;C25B1/30;C25B9/00 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 焦玉恒 |
| 地址： | 荷兰阿*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 使用 过氧化氢 沉积 薄膜 设备 | ||
1.一种配置成在衬底上形成薄膜的反应系统，包括：
反应室，其配置为保持待处理的衬底；
第一前体源，该第一前体源配置为向衬底提供第一前体气体；
惰性气体源，该惰性气体源配置为向衬底提供惰性气体；以及
过氧化氢源，其配置为按需提供液态过氧化氢溶液，其中过氧化氢源包括：
电化学电池，其包括：多孔电解质、第一气体扩散层、第二气体扩散层、催化剂层、活性炭层、第一膜层和第二膜层；
氢源，该氢源配置为提供氢气，其中氢气穿过第一气体扩散层、催化剂层和第一膜层进入多孔电解质；
氧源，该氧源配置为提供氧气，其中氧气穿过第二气体扩散层、活性炭层和第二膜层进入多孔电解质；以及
水源，该水源配置为向多孔电解质提供水；
其中，所述催化剂层将氢气转化成氢离子(H+)气体；并且
其中，所述活性炭层将氧气转化成与多孔电解质中的水反应以形成液相(HO2-)复合物的离子。
2.根据权利要求1所述的反应系统，其中，所述多孔电解质包括以下中的至少一个：苯乙烯-二乙烯基苯磺化共聚物、Dowex树脂、钇稳定氧化锆、无机固体或混合氧化铯-磷酸钨。
3.根据权利要求1所述的反应系统，其中，所述催化剂层包括以下中的至少一个：氧化铱或负载铂的碳。
4.一种配置成在衬底上形成薄膜的反应系统，包括：
反应室，其配置为保持待处理的衬底；
第一前体源，该第一前体源配置为向衬底提供第一前体气体；
惰性气体源，该惰性气体源配置为向衬底提供惰性气体；以及
过氧化氢源，其配置为按需提供液态过氧化氢溶液，其中过氧化氢源包括：
电化学电池，其包括：多孔电解质、第一气体扩散层、第二气体扩散层、催化剂层、活性炭层、第一膜层和第二膜层；
氢源，该氢源配置为提供氢气，其中氢气穿过第一气体扩散层、催化剂层和第一膜层进入多孔电解质；
氧源，该氧源配置为提供氧气，其中氧气穿过第二气体扩散层、活性炭层和第二膜层进入多孔电解质；以及
氮源，该氮源配置为向多孔电解质提供氮(N2)气体；
其中，所述催化剂层将氢气转化成氢离子(H+)气体；并且
其中，所述活性炭层将氧气转化成形成液相(HO2-)复合物的离子。
5.根据权利要求3所述的反应系统，其中，所述多孔电解质包括以下中的至少一个：苯乙烯-二乙烯基苯磺化共聚物、Dowex树脂、钇稳定氧化锆、无机固体或混合氧化铯-磷酸钨。
6.根据权利要求3所述的反应系统，其中，所述催化剂层包括以下中的至少一个：氧化铱或负载铂的碳。
7.根据权利要求3所述的反应系统，其中，所述氮源进一步向水蒸气提供氮气。
8.根据权利要求3所述的反应系统，其中，所述氮源进一步向非水性液体提供氮气。
9.根据权利要求8所述的反应系统，其中，所述非水性液体包括以下中的至少一个：二甲基亚砜(DMSO)或离子液体。
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C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
