[发明专利]半导体装置的制造方法以及半导体装置在审

专利信息
申请号: 202110590681.1 申请日: 2021-05-28
公开(公告)号: CN113764287A 公开(公告)日: 2021-12-07
发明(设计)人: 横山脩平;柴田祥吾;中村宏之 申请(专利权)人: 三菱电机株式会社
主分类号: H01L21/50 分类号: H01L21/50;H01L21/60;H01L23/495;H01L25/16
代理公司: 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 代理人: 何立波;张天舒
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 半导体 装置 制造 方法 以及
【权利要求书】:

1.一种半导体装置的制造方法,其中,

设置至少1个半导体元件,

向所述半导体元件连接多个第1端子和至少1个第2端子,该第2端子是被施加比所述第1端子低的电压的控制用端子,

在所述第1端子形成第1弯折部,

就相邻的所述多个第1端子而言,在彼此相对的面,所述第1弯折部不凸出。

2.根据权利要求1所述的半导体装置的制造方法,其中,

多个所述第2端子与所述半导体元件连接,

在各个所述第2端子形成第2弯折部,

就相邻的多个所述第2端子而言,在彼此相对的面,所述第2弯折部凸出。

3.根据权利要求1或2所述的半导体装置的制造方法,其中,

向所述半导体元件连接所述多个第1端子和所述第2端子是指,向所述半导体元件连接引线,将所述引线的成为所述第1端子或者所述第2端子的部位间的区域即连结杆部切断,

在与相邻的所述多个第1端子间的区域对应的所述连结杆部形成狭缝。

4.根据权利要求3所述的半导体装置的制造方法,其中,

所述狭缝的朝向相邻的所述多个第1端子的面为凸形状。

5.根据权利要求3或4所述的半导体装置的制造方法,其中,

所述狭缝仅在相邻的所述多个第1端子的附近形成。

6.根据权利要求1至5中任一项所述的半导体装置的制造方法,其中,

向所述半导体元件连接所述多个第1端子和所述第2端子是指,向所述半导体元件连接引线,将所述引线的成为所述第1端子或者所述第2端子的部位间的区域即连结杆部切断,

用于将所述连结杆部切断的切割部件对应于相邻的所述多个第1端子间的区域而具有凸形状的端面。

7.一种半导体装置,其具有:

至少1个半导体元件;以及

多个端子,它们与所述半导体元件连接,

所述多个端子具有:

多个第1端子,它们具有第1弯折部;以及

至少1个第2端子,其是被施加比所述第1端子低的电压的控制用端子,

就相邻的所述多个第1端子而言,在彼此相对的面,所述第1弯折部不凸出。

8.根据权利要求7所述的半导体装置,其中,

具有多个所述第2端子,

各个所述第2端子具有第2弯折部,

就相邻的多个所述第2端子而言,在彼此相对的面,所述第2弯折部凸出。

9.根据权利要求7或8所述的半导体装置,其中,

所述半导体元件使用宽带隙半导体。

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