[发明专利]半导体装置的制造方法以及半导体装置在审
申请号: | 202110590681.1 | 申请日: | 2021-05-28 |
公开(公告)号: | CN113764287A | 公开(公告)日: | 2021-12-07 |
发明(设计)人: | 横山脩平;柴田祥吾;中村宏之 | 申请(专利权)人: | 三菱电机株式会社 |
主分类号: | H01L21/50 | 分类号: | H01L21/50;H01L21/60;H01L23/495;H01L25/16 |
代理公司: | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人: | 何立波;张天舒 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 半导体 装置 制造 方法 以及 | ||
本发明涉及半导体装置的制造方法以及半导体装置。本说明书所公开的技术是用于确保端子间的空间距离以及沿面距离,并且抑制半导体装置大型化的技术。与本说明书所公开的技术相关的半导体装置的制造方法是,设置至少1个半导体元件,向半导体元件连接多个第1端子和至少1个第2端子,该第2端子是被施加比第1端子低的电压的控制用端子,在第1端子形成第1弯折部,就相邻的多个第1端子而言,在彼此相对的面,第1弯折部不凸出。
技术领域
本说明书所公开的技术涉及半导体装置的制造方法以及半导体装置。
背景技术
例如,就专利文献1所公开的半导体装置而言,与半导体元件连接的多个引线端子被向外部引出,彼此分离地配置。
专利文献1:日本特开平10-189859号公报
特别地,在将半导体装置用于大功率用途的情况下,为了确保空间距离以及沿面距离,需要将引线端子间的距离(端子间距)设定得长。另一方面,在对引线端子进行加工的过程中,有时引线端子的弯折部位(弯折部)膨胀,使得引线端子间的距离变短。
如果考虑上述情况而增大端子间距,则存在半导体装置过度大型化的问题。
发明内容
本说明书所公开的技术就是鉴于以上所记载的问题而提出的,是用于确保端子间的空间距离以及沿面距离,并且抑制半导体装置大型化的技术。
本说明书所公开的技术的第1方式涉及半导体装置的制造方法,设置至少1个半导体元件,向所述半导体元件连接多个第1端子和至少1个第2端子,该第2端子是被施加比所述第1端子低的电压的控制用端子,在所述第1端子形成第1弯折部,就相邻的所述多个第1端子而言,在彼此相对的面,所述第1弯折部不凸出。
本说明书所公开的技术的第2方式涉及半导体装置,该半导体装置具有:至少1个半导体元件;以及多个端子,它们与所述半导体元件连接,所述多个端子具有:多个第1端子,它们具有第1弯折部;以及至少1个第2端子,其是被施加比所述第1端子低的电压的控制用端子,就相邻的所述多个第1端子而言,在彼此相对的面,所述第1弯折部不凸出。
发明的效果
本说明书所公开的技术的第1方式涉及半导体装置的制造方法,设置至少1个半导体元件,向所述半导体元件连接多个第1端子和至少1个第2端子,该第2端子是被施加比所述第1端子低的电压的控制用端子,在所述第1端子形成第1弯折部,就相邻的所述多个第1端子而言,在彼此相对的面,所述第1弯折部不凸出。根据这样的结构,在被施加高电压的端子间的相对的面,弯折部不凸出,从而引线端子间的空间距离以及沿面距离不变短。因此,能够减小半导体装置的尺寸。
本说明书所公开的技术的第2方式涉及半导体装置,该半导体装置具有:至少1个半导体元件;以及多个端子,它们与所述半导体元件连接,所述多个端子具有:多个第1端子,它们具有第1弯折部;以及至少1个第2端子,其是被施加比所述第1端子低的电压的控制用端子,就相邻的所述多个第1端子而言,在彼此相对的面,所述第1弯折部不凸出。根据这样的结构,在被施加高电压的端子间的相对的面,弯折部不凸出,从而引线端子间的空间距离以及沿面距离不变短。因此,能够减小半导体装置的尺寸。
另外,与本说明书所公开的技术相关的目的、特征、方案、优点通过以下所示的详细说明和附图变得更清楚。
附图说明
图1是概略地表示实施方式涉及的半导体装置的结构的例子的俯视图。
图2是概略地表示实施方式涉及的半导体装置的结构的例子的剖面图。
图3是与图1以及图2所例示的结构对应的电路图。
图4是图3所示的结构中的主要与高压IC以及低压IC相关的电路图。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造