[发明专利]一种双带通滤光片及其制作方法

说明书

本发明属于光学薄膜技术领域，具体涉及一种双带通滤光片及其制作方法。它解决了现有双带通设计膜层不规律、膜层效果不佳及容易造成产品不良等问题。本双带通滤光片包括基底、设于基底一侧的双带通膜系和另一侧的AR膜系，双带通膜系包括从内往外交替叠加的低折射率膜层和高折射率膜层，以及为低折射率膜层的最外层；双带通膜系的膜系结构为由(0.5LH0.5L)^13和1.5(0.5LH0.5L)^10两个膜堆互相堆叠而成，AR膜系包括从内往外交替叠加的低折射率膜层和高折射率膜层，以及为低折射率膜层的最外层，AR膜系的膜系结构为(0.5LH0.5L)^13。本滤光片具有工艺简单、产品质量好、滤光片性能佳的优点。

技术领域

本发明属于光学薄膜技术领域，涉及一种双带通滤光片，特别是一种双带通滤光片及其制作方法。

背景技术

带通滤光片是光谱特性曲线透射带两侧邻接截止带的滤光片。带通滤光片根据光谱特性大致分为宽带滤光片和窄带滤光片两种，两种滤光片通常都是组合而成的，应用了光波干涉原理制备带通滤光片，且带通滤光片在各个领域得到了广泛应用。

双带通滤光片是单个滤光片具有两个带通，只用一片滤光片就能够实现两个特定波段的截取，能够选择两个或两个以上区域范围内的波段通过，双带通滤光片具有高峰值透射率和较深的截止，从而有效地抑制了光晕和温漂，拓宽了滤光片的应用。通常应用于安全监控、机器视觉检测、智能家居、智能交通等领域，特别是在无人机监测方面，双通带滤光片有着越来越广泛的应用。

现有在生产加工双带通滤光片时有采用光刻和镀膜工艺相结合的方式，用光刻工艺在基片上划分不同区域，一片区域镀制可见光透射红外光截止滤光膜，另一片区域镀制3D窄带滤光膜，实现两种膜系结合的双通滤光片。如公开的公告号为CN111552017A，名称为一种新型的双带通滤光片的制备方法的技术方案，该技术方案包括如下步骤：S1、预处理：挑选合适的玻璃片，放入超声波清洗机中清洗，通过离心干燥机甩干，检查玻璃片表面有无瑕疵，并在玻璃片正面表面划分若干彼此交替排布的A区与B区；S2、一次前处理：对玻璃片进行镀膜前准备工作；S3、A区镀膜：在所有的A区区域镀可见光透过红外截止滤光膜；S4、一次后处理：对镀膜后的玻璃片进行后续处理；S5、二次前处理：对玻璃片进行镀膜前准备工作；S6、B区镀膜：在所有的B区区域镀3D结构光940nm窄带滤光膜；S7、二次后处理：对镀膜后的玻璃片进行后续处理；S8、背面AR镀膜：在玻璃片背面镀宽屏增透AR膜；S9、清洗、检验：将成品放入超声波清洗机中，洗净甩干，取出检查外观是否合格。但该技术方案公开的加工流程较为复杂，单面镀膜工序较多，生产周期长，滤光片生产成本高。

随着工艺的改进及技术的发展，目前有些采用如下制备方法，包括如下步骤：a、清洁基底，并用离子源轰击2min～6min；b、将基底放入真空室内，抽真空至9×10-3Pa～2×10-4Pa，加热基底至100℃～200℃，恒温时间30min～60min；c、镀制第1层膜层，用SiO2膜料进行蒸镀，电子枪高能轰击材料，腔室充入Ar和O2气体，用离子源辅助，蒸发速率为0.8nm/s-1.2nm/s，使SiO2膜料离子沉积在基底上，采用晶振仪监控的方法确定第1层膜层的厚度；d、镀制第2层膜层，用TiO2膜料进行蒸镀，蒸发速率为0.2nm/s-0.5nm/s，腔室充入Ar和O2气体，用离子源辅助，使TiO2膜料沉积在基底上，采用晶振仪和光控结合监控的方法确定第2层膜层的厚度；e、依次重复步骤c和步骤d，直至镀完整个膜系；f、相同方法镀制另一面膜层。但该制备方法仍存在着如下问题：双带通设计膜层不规律，有很多薄层，用晶振和光控监控膜层效果不佳，实际镀膜光谱和设计光谱差异较大，容易造成产品不良。

发明内容

本发明的目的是为了解决上述技术问题，提出了一种双带通滤光片及其制作方法。