[发明专利]一种巴西试验过程炸药缺陷生成测试方法

权利要求书

1.一种巴西试验过程炸药缺陷生成测试方法，其特征在于，该方法包括以下步骤：

步骤一，采用万能试验机进行炸药药柱准静态下的巴西试验，分别在万能试验机的1.5米处、2米和3米处处布置光源、高速摄影机和声发射仪，高速摄影机正对万能试验机的测试炸药药柱端面；光源和样品角度与高速摄影机与样品角度存在夹角；

步骤二，准备炸药药柱，将炸药药柱的圆弧面放置于万能试验机的样品台上，炸药药柱的端面与样品台呈90°夹角且正对高速摄影机的镜头；将声发射仪的声发射传感器用透明胶带黏附在炸药药柱的圆弧面上；

步骤三，设置测试仪器参数，万能试验机采用控制速度方式加载，加载速度为0.2mm·min^-1；高速摄影的检测频率为50帧/秒；声发射仪的采样频率为10MHz；

步骤四，同步启动万能试验机的加载动作和高速摄影机、声发射仪的检测动作，并开始计时，记录炸药药柱缺陷生成参数，直至炸药药柱端面出现宏观裂纹，停止万能试验机的加载、高速摄影机和声发射仪的测试；

步骤五，巴西试验过程炸药缺陷生成测试结果由三种类型数据组成，所述的三种类型数据包括同一起始时间下的微缺陷-时间曲线、应力-时间曲线以及炸药药柱的端面形貌-时间关系；

通过所述的三种类型数据获得时刻A、时刻B、时刻C和时刻D的参数以及炸药药柱力学失效的力学强度，从而获得巴西试验过程炸药药柱缺陷生成参数；

所述的时刻A对应炸药药柱微缺陷产生时刻；所述的时刻B对应炸药药柱内部宏观缺陷产生时刻；所述的时刻C对应炸药药柱力学失效时刻；所述的时刻D对应炸药药柱端面宏观裂纹产生时刻。

2.如权利要求1所述的巴西试验过程炸药缺陷生成测试方法，其特征在于，所述的万能试验机采用AG-IC 100型万能试验机。

3.如权利要求1所述的巴西试验过程炸药缺陷生成测试方法，其特征在于，所述的声发射仪采用24通道声发射仪，系统前放增益40dB，声发射传感器滤波频宽为400Hz～2MHz。

4.如权利要求1所述的巴西试验过程炸药缺陷生成测试方法，其特征在于，所述的声发射仪的声发射传感器采用NANO30声发射传感器。

5.如权利要求1所述的巴西试验过程炸药缺陷生成测试方法，其特征在于，所述的光源和样品角度与高速摄影机与样品角度存在30°的夹角。

6.如权利要求1所述的巴西试验过程炸药缺陷生成测试方法，其特征在于，所述的炸药药柱的尺寸为Φ20×20mm。