[发明专利]一种大面积钙钛矿发光薄膜及其发光二极管在审
申请号: | 202110821831.5 | 申请日: | 2021-07-19 |
公开(公告)号: | CN113745438A | 公开(公告)日: | 2021-12-03 |
发明(设计)人: | 郭飞;陈超然;麦耀华 | 申请(专利权)人: | 暨南大学 |
主分类号: | H01L51/54 | 分类号: | H01L51/54;H01L51/50;H01L51/56 |
代理公司: | 广州市华学知识产权代理有限公司 44245 | 代理人: | 文静 |
地址: | 510632 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 大面积 钙钛矿 发光 薄膜 及其 发光二极管 | ||
1.一种大面积钙钛矿发光薄膜,其特征在于,所述大面积钙钛矿发光薄膜的印刷制备方法,包括如下制备步骤:
(1)将钙钛矿前驱体溶液使用涂布印刷工艺沉积在基底上,得到均匀的前驱体液膜;
(2)对步骤(1)所得的钙钛矿前驱体液膜进行抽真空处理,得到预结晶的钙钛矿薄膜;
(3)对步骤(2)所得预结晶的钙钛矿薄膜进行加热退火,得到充分结晶的钙钛矿发光薄膜。
步骤(1)中所述钙钛矿材料钙钛矿前驱体溶液中钙钛矿前驱体为AmBn-1MnX3n+1型钙钛矿,A为一价或二价的大尺寸胺根阳离子;B为CH3NH3+、HC(NH2)2+或Cs+中的至少一种;M为Pb2+或Sn2+;X为Cl-、Br-或I-中的至少一种;其中,m为1或2,1≤n≤5。
2.根据权利要求1所述的大面积钙钛矿发光薄膜,其特征在于,步骤(1)中所述涂布印刷工艺为刮涂法、喷雾涂布、狭缝挤出印刷法或喷墨印刷法中的至少一种。
3.根据权利要求1所述的大面积钙钛矿发光薄膜,其特征在于,步骤(1)所述钙钛矿前驱体液膜的沉积在15~35℃的干燥条件下进行。
4.根据权利要求1所述的大面积钙钛矿发光薄膜,其特征在于,步骤(1)中所述钙钛矿前驱体溶液配置的具体步骤为:将MX和AX2;按照1:1摩尔比例溶于有机溶剂中配置成AMX3混合溶液,向AMX3混合溶液加入BX,配置成不同n值的AmBn-1MnX3n+1型钙钛矿前驱体溶液,其中,m为1或2,1≤n≤5。
5.根据权利要求1所述的大面积钙钛矿发光薄膜,其特征在于,步骤(2)中所述真空预结晶处理为以40~230Pa/s的速度将真空度降至10~8000Pa,然后维持0.1~5min进行预结晶,该时间也会受环境温度和溶剂蒸发时间的影响。
6.根据权利要求5所述的大面积钙钛矿发光薄膜,其特征在于,步骤(2)中所述真空预结晶处理为以100~120Pa/s的速度将真空度降至1000~1200Pa的压强下,然后维持20~30s进行预结晶。
7.根据权利要求1所述的大面积钙钛矿发光薄膜,其特征在于,步骤(3)中所述退火处理为在50~180℃维持0.1~20min。
8.一种含有大面积钙钛矿发光薄膜的发光二极管,其特征在于,从下至上依次包括透明导电基底、空穴传输层、钙钛矿发光层、电子传输层以及金属电极,所述钙钛矿发光层为大面积钙钛矿发光薄膜层。
9.根据权利要求8所述的含有大面积钙钛矿发光薄膜的发光二极管,其特征在于,所述空穴传输层材料为NiOx、PEDOT:PSS或PTAA中的至少一种。
10.根据权利要求8所述的含有大面积钙钛矿发光薄膜的发光二极管,其特征在于,所述电子传输层包括TPBi和LiF电子传输层。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L51-00 使用有机材料作有源部分或使用有机材料与其他材料的组合作有源部分的固态器件;专门适用于制造或处理这些器件或其部件的工艺方法或设备
H01L51-05 .专门适用于整流、放大、振荡或切换且并具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒的;具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒的电容器或电阻器
H01L51-42 .专门适用于感应红外线辐射、光、较短波长的电磁辐射或微粒辐射;专门适用于将这些辐射能转换为电能,或者适用于通过这样的辐射进行电能的控制
H01L51-50 .专门适用于光发射的,如有机发光二极管
H01L51-52 ..器件的零部件
H01L51-54 .. 材料选择