[发明专利]一种抛光垫修整装置及抛光设备在审

专利信息
申请号: 202110858363.9 申请日: 2021-07-28
公开(公告)号: CN113458972A 公开(公告)日: 2021-10-01
发明(设计)人: 刘福强;李伟;史霄;杨宽;舒福璋 申请(专利权)人: 北京烁科精微电子装备有限公司
主分类号: B24B53/12 分类号: B24B53/12
代理公司: 北京三聚阳光知识产权代理有限公司 11250 代理人: 秦广成
地址: 100176 北京市*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 一种 抛光 修整 装置 设备
【说明书】:

发明提供的一种抛光垫修整装置及抛光设备,属于抛光垫修整技术领域,抛光垫修整装置包括:支座;摆臂,一端与支座转动连接;修整组件,设置在摆臂的远离所述支座的一端;所述修整组件具有修整头;所述修整头通过支撑座设置所述摆臂的一侧;所述修整头相对于所述摆臂做上下移动运动和旋转运动;厚度检测组件,设置在修整组件上;所述厚度检测组件具有接触式测距传感器;本发明的抛光垫修整装置,当修整头在下降的过程中,带动接触式测距传感器进行移动,通过接触式测距传感器感知到达固定位置的距离,进而推测出抛光垫的厚度,进而知道抛光垫的真实磨损情况,确定抛光垫的更换时间,保证抛光垫的使用寿命最长。

技术领域

本发明涉及抛光垫修整技术领域,具体涉及一种抛光垫修整装置及抛光设备。

背景技术

化学机械抛光技术是目前最有效、最成熟的平坦化技术,被广泛应用于半导体制造中。CMP抛光垫在整个晶圆抛光工艺中起着存储和传输抛光液的重要作用,但是,抛光垫的寿命只有几十个小时而已,在经过一段时间的抛光后,由于其表面变成光滑,甚至釉面,会降低抛光过程的材料去除率和抛光均匀性,因此,需要在抛光的过程中使用抛光垫修整器对抛光垫进行实时修整,以使抛光垫维持所需的粗糙度,确保其使用功能。

同时,目前的修整器只具有对抛光垫的修整的功能,而对于抛光垫的寿命一般通过晶圆计数或累计小时来计算,并在抛光垫寿命终止时停止对抛光垫的修整,进行抛光垫的更换;

但是,该方式并不能反应抛光垫真实的磨损情况,从而无法获得抛光垫的最大的使用寿命。

发明内容

因此,本发明要解决的技术问题在于克服现有技术中的通过晶圆计数或累计小时来计算抛光垫寿命的方法并不能反应抛光垫真实的磨损情况,且计算得到的抛光垫寿命往往短于抛光垫的真实寿命的缺陷,从而提供一种抛光垫修整装置。

本发明还提供一种抛光设备。

为解决上述技术问题,本发明提供的一种抛光垫修整装置,包括:

支座;

摆臂,一端与支座转动连接;

修整组件,设置在摆臂的远离所述支座的一端;所述修整组件具有修整头;所述修整头通过支撑座设置所述摆臂的一侧;所述修整头相对于所述摆臂做上下移动运动和旋转运动;

厚度检测组件,设置在修整组件上;所述厚度检测组件具有接触式测距传感器;

防碰撞组件,设置在支撑座上;所述防碰撞组件具有防碰撞传感器。

作为优选方案,所述修整头在第一驱动装置的驱动下发生上下移动;

所述第一驱动装置包括:

气缸,设置在导向支架的上端;所述导向支架的下端设置在弹簧座上;;

花键轴,通过滑动块与所述导向支架滑动连接;所述花键轴的一端适于与所述滑动块转动连接,另一端滑动穿过所述安装座与所述修整头连接;

弹性件,套设在所述花键轴上;所述弹性件的一端与所述滑动块抵接,另一端与所述弹簧座抵接;所述弹性件具有驱动所述修整头朝向气缸驱动的反方向移动的驱动力。

作为优选方案,所述修整头在第二驱动装置的驱动下通过齿轮组发生旋转运动。

作为优选方案,所述齿轮组具有第一齿轮和第二齿轮;所述第一齿轮与所述第二驱动装置的驱动端连接;所述第二齿轮与所述花键轴连接。

作为优选方案,还包括:

花键母,转动设置在所述安装座内;所述第二齿轮套设在所述花键母上,且所述花键母与所述花键轴滑动防转动连接。

作为优选方案,所述防碰撞组件包括:

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