[发明专利]感光模组及其制备方法、指纹识别模块和X射线探测器在审

专利信息
申请号: 202110875996.0 申请日: 2021-07-30
公开(公告)号: CN113611719A 公开(公告)日: 2021-11-05
发明(设计)人: 任庆荣;邢汝博;李俊峰;王刚;崔霜;张豪峰;郭瑞;胡世文 申请(专利权)人: 合肥维信诺科技有限公司
主分类号: H01L27/146 分类号: H01L27/146;H01L31/105;G06K9/00;G01N23/04
代理公司: 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 代理人: 刘丹;黄健
地址: 230037 安徽省合*** 国省代码: 安徽;34
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 感光 模组 及其 制备 方法 指纹识别 模块 射线 探测器
【说明书】:

本申请提供一种感光模组及其制备方法、指纹识别模块和X射线探测器,该感光模组包括:衬底;器件层,设置于衬底上,器件层包括薄膜晶体管,薄膜晶体管包括源极和漏极;光电二极管,位于器件层背离衬底的一侧,光电二极管包括沿远离衬底的方向依次设置的导电层、P型半导体层、本征半导体层和N型半导体层;电极层,位于光电二极管背离衬底的一侧,电极层包括间隔分布的正电极和负电极;其中,N型半导体层为透明层,N型半导体层通过正电极与漏极或者源极电连接,P型半导体层通过导电层与负电极电连接。该感光模组可以提高光电二极管的光电转换效率,提高产品的信噪比。

技术领域

本申请涉及显示技术领域,尤其涉及一种感光模组及其制备方法、指纹识别模块和X射线探测器。

背景技术

光电二极管是是指纹识别模块或者X射线探测器中较为关键的器件之一,增加该光电二极管的光电转换效率能够有效提高产品的外量子效率(External QuantumEfficiency,简称EQE),提升产品的信噪比。然而相关技术中光电二极管吸收的可见光损耗较大,减少了光致电子空穴对的数量,影响光电二极管的光电转换效率,导致指纹识别的准确率较低或者X射线图像的成像效果较差。

发明内容

鉴于上述问题,本申请实施例提供一种感光模组及其制备方法、指纹识别模块和X射线探测器,该感光模组可以提高光电二极管的光电转换效率,提升信噪比。

为了实现上述目的,本申请实施例提供如下技术方案:

本申请实施例的第一方面提供一种感光模组,包括:衬底;器件层,设置于衬底上,器件层包括薄膜晶体管,薄膜晶体管包括源极和漏极;光电二极管,位于器件层背离衬底的一侧,光电二极管包括沿远离衬底的方向依次层叠设置的导电层、P型半导体层、本征半导体层和N型半导体层;电极层,位于光电二极管背离衬底的一侧,电极层包括间隔分布的正电极和负电极;其中,N型半导体层为透明层,N型半导体层通过正电极与漏极或者源极电连接,P型半导体层通过导电层与负电极电连接。

在一种可能的实现方式中,感光模组还包括位于器件层与电极层之间的平坦化层,平坦化层覆盖源极、漏极和光电二极管,N型半导体层暴露在平坦化层外,并与正电极电连接;平坦化层设置有间隔分布的第一过孔和第二过孔,正电极通过第一过孔与漏极或者源极电连接,导电层通过第二过孔与负电极电连接。

在一种可能的实现方式中,源极或者漏极与导电层同层设置。

在一种可能的实现方式中,N型半导体层的材质包括IGZO或者ITZO。

在一种可能的实现方式中,平坦化层和/或电极层的负电极为透明层。

本申请实施例的第二方面提供一种感光模组的制备方法,包括:在衬底上形成器件层,器件层包括薄膜晶体管,薄膜晶体管包括源极和漏极;在器件层背离衬底的一侧形成光电二极管,光电二极管包括沿远离衬底的方向依次设置的导电层、P型半导体层、本征半导体层和N型半导体层,其中,N型半导体层为透明层;在器件层背离衬底的一侧形成平坦化层,平坦化层覆盖源极、漏极和光电二极管,N型半导体层暴露在平坦化层外,平坦化层设置有间隔分布的第一过孔和第二过孔;在平坦化层上形成电极层,电极层包括间隔分布的正电极和负电极,正电极与N型半导体层接触,且正电极通过第一过孔与漏极或者源极电连接,负电极通过第二过孔与导电层电连接。

在一种可能的实现方式中,在器件层背离衬底的一侧形成光电二极管的步骤包括:在器件层背离衬底的一侧形成导电层;在导电层上沉积形成P型半导体层;在P型半导体层上沉积形成本征半导体层;在本征半导体层上溅射IGZO或者ITZO,以形成N型半导体层;图案化N型半导体层、本征半导体层、P型半导体层和导电层,形成光电二极管。

本申请实施例的第三方面提供一种指纹识别模块,包括如前所述的感光模组。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于合肥维信诺科技有限公司,未经合肥维信诺科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202110875996.0/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top