[发明专利]一种低吸收高功率光纤激光增透膜及其制备方法有效
| 申请号： | 202110900073.6 | 申请日： | 2021-08-06 |
| 公开（公告）号： | CN113684449B | 公开（公告）日： | 2023-09-08 |
| 发明（设计）人： | 李全民;王泽栋;朱敏;吴玉堂 | 申请（专利权）人： | 南京波长光电科技股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/08 | 分类号： | C23C14/08;C23C14/10;C23C14/24;G02B1/115 |
| 代理公司： | 南京正律知识产权代理事务所(普通合伙) 32744 | 代理人： | 李建芳 |
| 地址： | 211121 江苏省南*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 吸收 功率 光纤 激光 增透膜 及其 制备 方法 | ||
1.一种低吸收高功率光纤激光增透膜，其特征在于：膜层结构为SUB/k1Hk2L/A、SUB/k1Lk2Hk3L/A或SUB/k1Hk2Lk3Hk4L/A；其中，SUB代表JGS1基底、A代表空气、H代表氧化铪层、L代表二氧化硅层，k1-k4代表每层的四分之一参考波长光学厚度的系数；当膜层结构为SUB/k1Hk2L/A时，k1为0.35，k2为1.32；当膜层结构为SUB/k1Lk2Hk3L/A时，k1为1.32，k2为0.35，k3为1.32；当膜层结构为SUB/k1Hk2Lk3Hk4L/A时，k1为0.17，k2为1.7，k3为0.25，k4为1.4。
2.权利要求1所述的低吸收高功率光纤激光增透膜的制备方法，其特征在于：包括如下：
1)基片条件：基片材料的表面粗糙度Ra优于0.5nm，表面光洁度优于20/10；
2)镀膜设备配置：镀膜机，两把270度偏转的电子枪，两个冷凝泵和干式机械泵抽真空系统；
3)蒸发环境保持：在蒸发源与基板之间加隔离挡板，阻挡并吸附无效的蒸发材料；
4)超声波清洗：所用超声波频率1-3槽为40KHZ、4-8槽80KHZ、8-12槽1MHZ,经13槽慢拉切水，最后14槽喷淋甩干，去除基板表面附着的微观颗粒；
5)薄膜制备工艺参数：基底成膜温度200-300℃，恒温30min以上，本底真空度在8.0E-4Pa-1.0E-5Pa，氧化铪的蒸发速率为0.01-0.1nm/s，所用的蒸发材料为金属铪，所使用反应气体为纯度大于99.99％的高纯氧气，充氧量在100-150sccm；二氧化硅的蒸发速率在1.0nm/s，氧气充气量为100-150sccm。
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