[发明专利]掩模组件以及用于制造掩模组件的方法

权利要求书

1.一种掩模组件，包括：

掩模框架，第一开口被限定在所述掩模框架中；以及

沉积掩模，多个第二开口被限定在所述沉积掩模中，

其中，所述第一开口与所述多个第二开口中的全部重叠。

2.根据权利要求1所述的掩模组件，其中，所述沉积掩模被提供为多个沉积掩模，并且所述多个沉积掩模与所述第一开口重叠。

3.根据权利要求1所述的掩模组件，其中：

所述第一开口被提供为多个第一开口；

所述沉积掩模被提供为多个沉积掩模；并且

所述多个沉积掩模设置为分别与所述多个第一开口相对应。

4.根据权利要求1所述的掩模组件，进一步包括设置在所述掩模框架和所述沉积掩模之间的中间框架，

其中，多个第三开口被限定在所述中间框架中，并且所述第一开口与所述多个第三开口中的全部重叠。

5.根据权利要求4所述的掩模组件，其中，所述多个第二开口与所述多个第三开口中的一个重叠。

6.根据权利要求1至5中任一项所述的掩模组件，其中，所述沉积掩模和所述掩模框架包含金属。

7.一种用于制造掩模组件的方法，所述方法包括：

提供掩模框架，第一开口被限定在所述掩模框架中以延伸通过所述掩模框架的前表面，所述掩模框架包括其中所述前表面沿着重力方向延伸的附接定向；

提供初始沉积掩模，多个第二开口被限定在所述初始沉积掩模中；

提供初始掩模组件，所述初始掩模组件包括处于所述附接定向的所述掩模框架，并且具有附接到所述掩模框架的沿着所述重力方向延伸的所述前表面的所述初始沉积掩模；以及

提供所述初始掩模组件的所述初始沉积掩模的从所述初始沉积掩模的剩余部分分离的一部分，以提供所述掩模组件的作为所述初始沉积掩模的所述剩余部分的沉积掩模，

其中，包括处于所述附接定向的所述掩模框架的所述初始掩模组件包括所述掩模框架的沿着所述重力方向与所述初始沉积掩模的所述多个第二开口中的每一个相对应的所述第一开口。

8.根据权利要求7所述的方法，其中，所述初始掩模组件的所述提供包括提供附接到保持工具的所述初始沉积掩模，所述保持工具维持所述初始沉积掩模与所述掩模框架的沿着所述重力方向延伸的所述前表面平行。

9.根据权利要求7所述的方法，其中，所述初始掩模组件的所述提供包括提供在所述掩模框架的所述第一开口的相对侧处附接到多个保持工具的所述初始沉积掩模，所述多个保持工具维持所述初始沉积掩模与所述掩模框架的沿着所述重力方向延伸的所述前表面平行。

10.根据权利要求7至9中任一项所述的方法，其中，所述初始沉积掩模的从所述初始沉积掩模的所述剩余部分分离的所述一部分的所述提供包括使用脉冲激光提供所述初始沉积掩模的所述一部分的分离。

11.根据权利要求10所述的方法，其中

所述初始掩模组件的所述提供包括提供附接到保持工具的所述初始沉积掩模，所述保持工具维持所述初始沉积掩模与所述掩模框架的沿着所述重力方向延伸的所述前表面平行，

所述掩模组件的所述沉积掩模包括外边缘，

所述初始沉积掩模包括与所述沉积掩模的所述外边缘相对应的分离线，并且所述脉冲激光在所述分离线处被应用到所述初始沉积掩模，并且

所述初始掩模组件的所述提供进一步包括提供所述初始沉积掩模的沿着所述重力方向在所述初始沉积掩模的所述多个第二开口和所述保持工具之间的所述分离线。

12.根据权利要求11所述的方法，其中，所述初始掩模组件的所述提供进一步包括提供：

附接区，所述初始沉积掩模在所述附接区处附接到所述掩模框架，以及

沿着所述重力方向在所述附接区和所述保持工具之间的所述分离线。