[发明专利]掩模组件以及用于制造掩模组件的方法

说明书

本发明提供了掩模组件以及用于制造掩模组件的方法。该掩模组件包括：其中限定有第一开口的掩模框架，掩模框架包括第一开口延伸通过的前表面；以及沉积掩模，附接到掩模框架的前表面，并且多个第二开口被限定为通过沉积掩模。掩模框架包括其中前表面沿着重力方向延伸的附接定向，沉积掩模包括附接到在附接定向中的掩模框架的前表面并且多个第二开口被限定为通过的初始掩模，并且具有沿着重力方向延伸的前表面的掩模框架的附接定向沿着重力方向将掩模框架的第一开口设置为对应于初始掩模的多个第二开口中的全部。

本申请要求于2020年8月31日提交的第10-2020-0110613号韩国专利申请的优先权以及由此产生的所有权益，其全部内容通过引用并入本文。

技术领域

本公开在本文中涉及沉积掩模、提供(或制造)沉积掩模的方法以及使用沉积掩模提供(或制造)显示面板的方法。更具体地，本公开在本文中涉及金属沉积掩模、提供金属沉积掩模的方法以及通过使用金属沉积掩模提供显示面板的方法。

背景技术

显示面板包括多个像素。像素中的每一个包括诸如晶体管的驱动元件以及诸如有机发光二极管的显示元件。可以通过在基板上堆叠电极和发光图案来设置显示元件。

通过使用其中限定有穿透孔(例如，沉积孔)的沉积掩模来图案化发光图案，以将发光图案设置在沉积掩模的区域中。发光图案可以在沉积掩模的通过其穿透孔暴露于沉积掩模外部的区域中提供给目标。

发明内容

本公开提供了可提高可靠性并且降低成本的用于制造大面积显示面板的掩模以及制造掩模的方法。

实施例提供了一种掩模，包括：掩模框架，具有限定在其中的第一开口；以及沉积掩模，具有限定在其中的多个第二开口，其中第一开口与多个第二开口中的全部重叠。

在实施例中，沉积掩模可以被提供为多个沉积掩模，并且多个沉积掩模可以与第一开口重叠。

在实施例中，第一开口可以被提供为多个第一开口，沉积掩模可以被提供为多个沉积掩模，并且多个沉积掩模可以设置为分别与多个第一开口相对应。

在实施例中，掩模可以进一步包括位于掩模框架和沉积掩模之间的中间框架。中间框架可以包括多个第三开口，并且第一开口可以与多个第三开口中的全部重叠。

在实施例中，多个第二开口可以与多个第三开口中的一个重叠。

在实施例中，沉积掩模和掩模框架可以包括金属。

在实施例中，一种制造掩模的方法包括：提供具有限定在其中的第一开口的掩模框架；提供具有限定在其中的多个第二开口的初始沉积掩模，多个第二开口与掩模框架的前表面上的第一开口重叠；将初始沉积掩模与掩模框架组合以提供掩模组件；以及从掩模组件中去除初始沉积掩模的一部分以形成掩模。在初始沉积掩模的提供时，初始沉积掩模被附接到多孔卡盘并且被提供在掩模框架的前表面上。

在实施例中，掩模框架的前表面可以被提供为与重力方向平行。

在实施例中，多孔卡盘可以被提供为多个多孔卡盘。

在实施例中，可以通过使用脉冲激光来去除初始沉积掩模的一部分。

在实施例中，其中提供有脉冲激光的区域可以位于第二开口和多孔卡盘之间。

在实施例中，其中提供有脉冲激光的区域可以位于多孔卡盘和其中初始沉积掩模与掩模框架被组合的区域之间。

制造掩模的方法可以进一步包括在掩模框架和初始沉积掩模之间提供中间框架，并且初始沉积掩模可以被提供在中间框架的前表面上并与中间框架组合。

在实施例中，多孔卡盘可以与初始沉积掩模的被去除的部分组合。