[发明专利]一种小尺寸测试版脱膜方法及脱膜装置在审

专利信息
申请号: 202111021226.6 申请日: 2021-09-01
公开(公告)号: CN113805431A 公开(公告)日: 2021-12-17
发明(设计)人: 徐智俊 申请(专利权)人: 合肥清溢光电有限公司
主分类号: G03F1/68 分类号: G03F1/68;G03F1/84;G03F7/30
代理公司: 合肥律众知识产权代理有限公司 34147 代理人: 赵娟
地址: 230000 安徽省合*** 国省代码: 安徽;34
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摘要:
搜索关键词: 一种 尺寸 测试 版脱膜 方法 装置
【说明书】:

发明公开了一种小尺寸测试版脱膜方法,包括首先利用光照射测试版具有光刻胶的表面,光刻胶吸收光发生光解,使得光刻胶易溶于显影液;然后利用显影液冲洗被光照射后的测试版表面,将测试版表面发生光解的光刻胶冲洗溶解至无光刻胶残留;最后,用纯水冲洗测试版表面,至无显影液残留;本发明技术方案的一种小尺寸测试版脱膜方法,利用与待去除光刻胶相适应的光照射光刻胶一定时间,使得光刻胶吸收光,发生光解反应,使得光解后的光刻胶易溶于一定浓度的显影液,最后利用显影液冲洗测试版及其上的光刻胶,实现光刻胶的去除,在整个除胶过程中,没有强氧化剂和腐蚀剂的使用,光解过程快速,效率高,安全环保。

技术领域

本发明属于掩膜版制造领域,更具体的说涉及一种小尺寸测试版脱膜方法及脱膜装置。

背景技术

在掩膜版制造中,调试光刻工艺时需要做一系列小尺寸掩膜版测试版,对于已显影、蚀刻的测试版,需要将表面的光刻胶去除。目前量产时用于脱膜的方法主要采用浓硫酸、双氧水等强氧化药液处理,首先将光刻胶氧化,最后用纯净水冲洗干净。

将对光刻胶进行强氧化处理主要存在以下缺陷,首先强氧化剂具有很强的腐蚀性,若手工脱膜,极易接触到皮肤,存在烧伤皮肤的风险;其次,强氧化药液成本较高,特别是在量产设备上,每次脱膜需消耗大量的药液,性价比低;最后,氧化处理光刻胶在脱膜效率不占优势,如量产设备上脱膜测试版一般耗时1小时左右。

发明内容

本发明的目的在于提供一种小尺寸测试版脱膜方法及脱膜装置,解决背景技术中采用传统的氧化除胶存在的问题。

本发明技术方案一种小尺寸测试版脱膜方法,包括首先利用光照射测试版具有光刻胶的表面,光刻胶吸收光发生光解,使得光刻胶易溶于显影液;然后利用显影液冲洗被光照射后的测试版表面,将测试版表面发生光解的光刻胶冲洗溶解至无光刻胶残留;最后,用纯水冲洗测试版表面,至无显影液残留。

优选地,所述光为i线或g线。

优选地,所述光刻胶的制备原料中包括有成膜剂、感光剂和溶解剂,所述成膜剂为线性酚醛树脂,感光剂为重氮萘醌化合物,所述显影液为2.38%四甲基氢氧化铵。

优选地,所述测试版尺寸不大于9英寸。

优选地,所述测试版在脱膜过程中始终处于水平安装且旋转状态。

一种小尺寸测试版脱膜装置,基于前述的小尺寸测试版脱膜方法进行脱膜,所述脱膜装置包括用于固定测试版的测试版夹具和罩设在所述测试版夹具上且可相互替换的光照装置和冲洗装置;

所述测试版夹具包括可旋转平台和固定于所述可旋转平台上的可调夹持组件,所述可调夹持组件包括四呈矩阵排列的可伸缩夹持头,四所述可伸缩夹持头分别由测试版的四边夹紧待脱膜测试版;

所述光照装置包括不透明的罩箱,所述罩箱内顶面上设置有对测试版表面光刻胶进行光照处理的光源;

所述冲洗装置包括透明防水罩,所述透明防水罩内设置有若干朝向测试版的喷淋头,所述喷淋头包括显影液喷淋头和纯水喷淋头,所述显影液喷淋头上连接有显影液槽,所述纯水喷淋头上连接有水槽。

优选地,所述可旋转平台包括固定底座、安装在所述固定底座上的旋转驱动机构、由所述旋转驱动机构驱动并置于所述固定底座上的旋转置物架,所述可调夹持组件安装于所述旋转置物架上;

所述固定底座包括支撑架和置于所述支撑架上的固定台面,所述旋转置物架包括旋转平台和固定于所述旋转平台上表面的旋转支架,所述旋转平台置于所述固定台面上且旋转平台底面中心连接有穿过所述固定台面并与所述旋转驱动机构连接的转轴,所述可调夹持组件安装于所述旋转支架上;

所述旋转驱动机构包括与所述转轴固接的从动轮、与所述从动轮啮合的主动轮和驱动所述主动轮旋转的驱动电机;

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