[发明专利]一种氢敏光学元件及氢敏光学传感器在审
申请号: | 202111037848.8 | 申请日: | 2021-09-06 |
公开(公告)号: | CN113720780A | 公开(公告)日: | 2021-11-30 |
发明(设计)人: | 何镧;薛阿喜;黄雷;王成宇 | 申请(专利权)人: | 杭州超钜科技有限公司 |
主分类号: | G01N21/01 | 分类号: | G01N21/01;G01N21/61 |
代理公司: | 浙江千克知识产权代理有限公司 33246 | 代理人: | 周希良 |
地址: | 310012 浙江省杭州市西湖*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 光学 元件 传感器 | ||
1.一种氢敏光学元件,其特征在于,包括透光基片和附着于透光基片至少一表面的氢敏膜,氢敏膜内分布有Ag@Pd核壳型纳米颗粒,Ag@Pd核壳型纳米颗粒为Ag核之外包覆Pd壳。
2.根据权利要求1所述的一种氢敏光学元件,其特征在于,所述氢敏膜的厚度为100~300nm。
3.根据权利要求1所述的一种氢敏光学元件,其特征在于,所述透光基片为光学石英玻璃。
4.根据权利要求1所述的一种氢敏光学元件,其特征在于,所述Ag@Pd核壳型纳米颗粒的制备过程,包括:
(1)采用有机相合成法制备Ag核;
(2)采用晶种生长法在Ag核上包覆Pd壳。
5.根据权利要求1-4任一项所述的一种氢敏光学元件,其特征在于,采用旋转涂覆将Ag@Pd核壳型纳米颗粒沉积至透光基片的表面,以形成氢敏膜。
6.根据权利要求5所述的一种氢敏光学元件,其特征在于,在旋转涂覆之前,对透光基片的表面进行抛光处理。
7.一种氢敏光学传感器,其特征在于,包括外壳和如权利要求1-6任一项所述的氢敏光学元件,外壳内具有密封气室,氢敏光学元件安装于密封气室之内;
外壳具有连通外界与密封气室的进气口和出气口,氢敏光学元件位于进气口与出气口之间,以使待测气样流经氢敏光学元件;
外壳具有沿光路相对分布的入光口和出光口,氢敏光学元件位于入光口与出光口之间,以使从入光口进入的入射光贯穿氢敏光学元件。
8.根据权利要求7所述的一种氢敏光学传感器,其特征在于,所述氢敏光学元件有数块,依次沿入光口和出光口的连线方向并排等间距分布,且所有氢敏光学元件均位于进气口与出气口之间。
9.根据权利要求8所述的一种氢敏光学传感器,其特征在于,相邻的氢敏光学元件交错分布,以与密封气室构成能使待测气样依次流经各氢敏光学元件表面的蛇形气流通道。
10.根据权利要求7所述的一种氢敏光学传感器,其特征在于,所述外壳包括壳体和壳盖,壳体具有第一腔室,壳盖具有第二腔室;
当壳盖盖合于壳体,第一腔室与第二腔室构成密封气室;
壳体的第一腔室和壳盖的第二腔室分别具有用于安装氢敏光学元件的安装槽。
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