[发明专利]一种用于单片湿处理制程的槽式工艺系统在审
| 申请号： | 202111077708.3 | 申请日： | 2021-09-15 |
| 公开（公告）号： | CN113714201A | 公开（公告）日： | 2021-11-30 |
| 发明（设计）人： | 史蒂文·贺·汪;刘立安;王亦天;吴仪 | 申请（专利权）人： | 新阳硅密（上海）半导体技术有限公司 |
| 主分类号： | B08B3/12 | 分类号： | B08B3/12;B08B3/14;B08B13/00 |
| 代理公司： | 北京市盈科律师事务所 11344 | 代理人： | 陈晨;王津 |
| 地址： | 201616 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 用于 单片 处理 工艺 系统 | ||
1.一种用于单片湿处理制程的槽式工艺系统，其特征在于，包括清洗槽、基片夹具以及驱动装置，所述基片夹具与驱动装置连接；
所述清洗槽内注入有工艺液体；
所述基片夹具用于夹持基片，基片可在驱动装置的驱动下浸入清洗槽的工艺液体内以进行湿处理工艺。
2.根据权利要求1所述的用于单片湿处理制程的槽式工艺系统，其特征在于，所述基片可在驱动装置的驱动下旋转。
3.根据权利要求1所述的用于单片湿处理制程的槽式工艺系统，其特征在于，所述清洗槽包括内槽、环绕内槽的外槽以及循环管路系统；
所述循环管路系统包括进液管、出液管、循环泵和/或过滤器，所述出液管的一端连接外槽，另一端经循环泵和/或过滤器连接进液管的一端，所述进液管的另一端连接内槽。
4.根据权利要求1所述的用于单片湿处理制程的槽式工艺系统，其特征在于，所述清洗槽连接有温度控制装置。
5.根据权利要求1所述的用于单片湿处理制程的槽式工艺系统，其特征在于，所述清洗槽的横截面为圆形。
6.根据权利要求1所述的用于单片湿处理制程的槽式工艺系统，其特征在于，所述清洗槽的进液口处设置有均流板。
7.根据权利要求1所述的用于单片湿处理制程的槽式工艺系统，其特征在于，所述清洗槽的底部设置有超声波/兆声波发生机构，所述超声波/兆声波发生机构向清洗槽内的工艺液体提供超声波/兆声波。
8.根据权利要求1所述的用于单片湿处理制程的槽式工艺系统，其特征在于，所述清洗槽外套设有可升降的挡水环。
9.根据权利要求1所述的用于单片湿处理制程的槽式工艺系统，其特征在于，所述清洗槽的底部为锥形结构，或所述清洗槽的底部向一侧倾斜。
10.根据权利要求1所述的用于单片湿处理制程的槽式工艺系统，其特征在于，所述驱动装置为机械手。
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