[发明专利]一种(Inx 在审
申请号: | 202111102849.6 | 申请日: | 2021-09-18 |
公开(公告)号: | CN113921627A | 公开(公告)日: | 2022-01-11 |
发明(设计)人: | 张洪良;陈文山;徐翔宇;况思良;张佳业 | 申请(专利权)人: | 厦门大学 |
主分类号: | H01L31/032 | 分类号: | H01L31/032;H01L31/0392;H01L31/09;H01L31/18;C23C14/34 |
代理公司: | 厦门市首创君合专利事务所有限公司 35204 | 代理人: | 张松亭;姜谧 |
地址: | 361000 *** | 国省代码: | 福建;35 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 in base sub | ||
1.一种(InxGa1-x)2O3日盲紫外光电探测器,其特征在于:其光灵敏性达到108,探测率达到2×1016-5×1016jones,包括一c-Al2O3衬底,该c-Al2O3衬底上通过PLD生长形成一厚度为0.1-0.5μm的(InxGa1-x)2O3薄膜,该(InxGa1-x)2O3薄膜上设有叉指电极,其中0.05≤x≤0.1;上述PLD的靶材由Ga2O3粉末和In2O3粉末经混合后煅烧制成,该PLD的温度为640-700℃。
2.如权利要求1所述的一种(InxGa1-x)2O3日盲紫外光电探测器,其特征在于:所述c-Al2O3衬底为单面抛光或者双面抛光,尺寸为5-10mm×5-10mm×0.4-0.6mm。
3.如权利要求1所述的一种(InxGa1-x)2O3日盲紫外光电探测器,其特征在于:所述(InxGa1-x)2O3薄膜的厚度为0.1-0.3μm。
4.如权利要求1所述的一种(InxGa1-x)2O3日盲紫外光电探测器,其特征在于:所述叉指电极的材质为金或铂。
5.如权利要求4所述的一种(InxGa1-x)2O3日盲紫外光电探测器,其特征在于:所述叉指电极的厚度为0.03-1μm。
6.权利要求1至5中任一权利要求所述的(InxGa1-x)2O3日盲紫外光电探测器的制备方法,其特征在于:包括如下步骤:
(1)将0.026-0.036mol的Ga2O3粉末和0.0003-0.003mol的In2O3粉末放入研钵中并研磨混合均匀,然后将混合均匀的粉末倒入不锈钢磨具中,压制成型,再于1300-1350℃煅烧20-25h,获得陶瓷合金靶材;
(2)将c-Al2O3衬底依次在丙酮、异丙醇和去离子水中进行超声清洗,然后用氮气吹干,获得洁净的c-Al2O3衬底。
(3)将上述洁净的c-Al2O3衬底固定在样品台上,再将其与陶瓷合金靶材一起放入脉冲激光沉积设备的真空腔内,于640-700℃进行脉冲激光沉积,形成所述(InxGa1-x)2O3薄膜。
(4)在上述制得的(InxGa1-x)2O3薄膜上用电子束蒸发镀上叉指电极,获得所述(InxGa1-x)2O3日盲紫外光电探测器。
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