[发明专利]一种化学气相沉积系统

权利要求书

1.一种化学气相沉积系统，其特征在于，包括：

气密腔体，其容纳基座、衬里以及均质面光源加热器；

基座，其被配置为承载衬底；

衬里，其单独或者与所述基座共同包围衬底；

均质面光源加热器，其被配置为对所述衬底进行均质加热；以及

送气装置，其被配置为将反应气体运送至衬里内与衬底发生沉积反应。

2.根据权利要求1所述的化学气相沉积系统，其特征在于，所述气密腔体具有腔体冷却装置，所述腔体冷却装置包括：

冷却管路，其通过冷却水以及致冷剂对所述气密腔体进行冷却；和\或

风冷装置，其通过冷却气体对所述气密腔体进行冷却。

3.根据权利要求1所述的化学气相沉积系统，其特征在于，包括金属气密腔体，所述金属包括铝或者不锈钢。

4.根据权利要求1所述的化学气相沉积系统，其特征在于，所述气密腔体的内壁的反射率大于等于80％以便减少热损失。

5.根据权利要求1所述的化学气相沉积系统，其特征在于，所述基座包括石墨基座。

6.根据权利要求1所述的化学气相沉积系统，其特征在于，所述基座是可旋转的。

7.根据权利要求1-6之一所述的化学气相沉积系统，其特征在于，包括一个或者多个所述基座。

8.根据权利要求1所述的化学气相沉积系统，其特征在于，所述均质面光源加热器的加热体包括电阻式红外加热体，所述加热体在所述气密腔体的垂直截面上的厚度小于10mm。

9.根据权利要求8所述的化学气相沉积系统，其特征在于，所述加热体在所述均质面光源加热器上的正投影面积大于等于所述均质面光源加热器的表面积的20％。

10.根据权利要求9所述的化学气相沉积系统，其特征在于，所述均质面光源加热器包括：

石英加热器，其加热体包括石英上的发热丝，其中通过丝网印刷银浆、纳米墨水或者导电薄膜并且烧结以构造成型；

高纯石墨、玻璃碳或者碳碳复合材料加热器；

电热合金发热盘；以及

高纯或掺杂单晶硅或多晶硅加热器。

11.根据权利要求10所述的化学气相沉积系统，其特征在于，包括第一和第二均质面光源加热器，所述第一和第二均质面光源加热器分别布置于所述基座的上方和下方。

12.根据权利要求11所述的化学气相沉积系统，其特征在于，所述衬里布置于所述第一或第二均质面光源加热器与所述基座之间。

13.根据权利要求12所述的化学气相沉积系统，其特征在于，所述衬里的厚度为0.1至24mm；和\或

所述第一或第二均质面光源加热器的中心至所述衬里靠近所述基座一侧的表面的距离小于25mm。

14.根据权利要求13所述的化学气相沉积系统，其特征在于，所述衬里在红外透射的区域分采用高纯石英材料；和\或

所述衬里在红外不透射的区域采用PBN材料、石墨、涂层石墨、高纯陶瓷、涂层碳碳复合材料、涂层碳毡材料或者高纯单晶或多晶硅或者单多晶硅。

15.根据权利要求10所述的化学气相沉积系统，其特征在于，所述均质面光源加热器包围衬底以构成所述衬里。

16.根据权利要求1所述的化学气相沉积系统，其特征在于，所述送气装置还被配置为在所述气密腔体内运送吹扫气体以便吹扫从所述衬里中泄露的反应气体。