[发明专利]一种电磁屏蔽网格的制备方法及电磁屏蔽薄膜在审
| 申请号： | 202111146692.7 | 申请日： | 2021-09-28 |
| 公开（公告）号： | CN113811172A | 公开（公告）日： | 2021-12-17 |
| 发明（设计）人： | 李弋舟;张冠华;段辉高;卢虎贲;颜昱;段聪 | 申请（专利权）人： | 长沙韶光铬版有限公司 |
| 主分类号： | H05K9/00 | 分类号： | H05K9/00;H01B13/00 |
| 代理公司： | 长沙轩荣专利代理有限公司 43235 | 代理人： | 李崇章 |
| 地址： | 湖南省长沙市*** | 国省代码： | 湖南;43 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 电磁 屏蔽 网格 制备 方法 薄膜 | ||
1.一种电磁屏蔽网格的制备方法，其特征在于，包括步骤：
在透明衬底一侧的表面涂覆光刻胶；
通过曝光以及显影在所述光刻胶的表面形成图案；
在形成所述图案后的所述光刻胶的表面蒸镀金属层；
将蒸镀所述金属层后的所述透明衬底浸泡于N-甲基吡咯烷酮溶液，以去除所述光刻胶表面的所述金属层，保留所述图案表面上的所述金属层，从而得到预制电磁屏蔽网格；
通过脉冲电镀在所述预制电磁屏蔽层的表面电沉积Au，从而得到电磁屏蔽网格。
2.如权利要求1所述的电磁屏蔽网格的制备方法，其特征在于，所述光刻胶的厚度为2.8-3.2微米。
3.如权利要求1所述的电磁屏蔽网格的制备方法，其特征在于，所述图案为均匀分布的圆环结构，所述透明衬底为玻璃、透明硅胶和透明橡胶中的一种。
4.如权利要求1所述的电磁屏蔽网格的制备方法，其特征在于，所述在形成所述图案后的所述光刻胶的表面蒸镀金属层的具体步骤包括：先在形成所述图案后的所述光刻胶的表面蒸镀0.8-1.2纳米的Cr粘附层，再在所述Cr粘附层的表面蒸镀9.8-10.2纳米的Au导电层。
5.如权利要求1所述的电磁屏蔽网格的制备方法，其特征在于，所述透明衬底在涂覆所述光刻胶前经过粗化处理。
6.如权利要求5所述的电磁屏蔽网格的制备方法，其特征在于，所述粗化处理的具体步骤包括：先在所述透明衬底需要涂覆所述光刻胶的表面间隔设置向内凹陷的凹槽，再在所述凹槽内填充透明胶水，填充所述透明胶水后的所述透明衬底的表面为平整面。
7.如权利要求6所述的电磁屏蔽网格的制备方法，其特征在于，所述凹槽的深度为所述透明衬底的厚度的三分之一至二分之一。
8.如权利要求5所述的电磁屏蔽网格的制备方法，其特征在于，所述粗化处理的具体步骤包括：先在所述透明衬底需要涂覆所述光刻胶的表面间隔设置向外突出的突出部，再在所述突出部之间填充透明胶水，填充所述透明胶水后的所述透明衬底的表面为平整面。
9.如权利要求1所述的电磁屏蔽网格的制备方法，其特征在于，所述蒸镀金属层之前还包括步骤：
将形成所述图案后的所述透明衬底浸泡于可溶性盐溶液中，浸泡的温度为50-70℃，时间为8-15分钟；
再将在所述可溶性盐溶液中浸泡完成后的所述透明衬底浸泡于铜离子浓度为0.05-0.12mol/L的溶液中，浸泡的温度为40-60摄氏度，时间为8-15分钟。
10.一种电磁屏蔽薄膜，其特征在于，所述电磁屏蔽薄膜通过权利要求1至9任一项所述的电磁屏蔽网格的制备方法制备，并通过处理得到。
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