[发明专利]阵列基板及其制作方法、显示面板

权利要求书

1.一种阵列基板，所述阵列基板分为透光区和非透光区；所述阵列基板包括基底和薄膜晶体管层，所述薄膜晶体管层设于所述基底上；所述薄膜晶体管层包括对应于非透光区的薄膜晶体管部和对应于透光区的色阻部；其特征在于：

所述色阻部直接设于所述基底；

或，所述色阻部与所述基底之间设有无机膜层或有机膜层，所述无机膜层或有机膜层的总层数等于1。

2.如权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述基底和所述薄膜晶体光管层之间设有遮光层和第一缓冲层，所述遮光层设于所述基底对应所述薄膜晶体管部的位置上，所述第一缓冲层设于所述遮光层和所述基底上，所述色阻部设于所述第一缓冲层。

3.如权利要求2所述的阵列基板，其特征在于，所述薄膜晶体管部和第一缓冲层之间还设有第二缓冲层。

4.如权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，当所述色阻部直接设于所述基底，所述薄膜晶体管部和所述基底之间依次设有遮光层、第一缓冲层和第二缓冲层。

5.如权利要求1至4中任一项所述的阵列基板，其特征在于，所述薄膜晶体管部包括依次叠设的有源层、栅极绝缘层、栅极、有机绝缘层，还包括设于所述有机绝缘层的且间隔设置的源极与漏极；所述源极与漏极分别通过所述有机绝缘层的过孔和所述有源层连接。

6.如权利要求2至4中任一项所述的阵列基板，其特征在于，所述第一缓冲层的折射率范围为1.0~1.2。

7.如权利要求1至4中任一项所述的阵列基板，其特征在于，所述色阻部由红色色阻单元、绿色色阻单元和蓝色色阻单元构成；

或，所述色阻部由红色色阻单元、绿色色阻单元、蓝色色阻单元及白色色阻单元构成。

8.一种阵列基板的制作方法，其特征在于，所述阵列基板的制作方法包括以下步骤：

提供一基底，在所述基底上形成遮光层；

在所述遮光层上形成缓冲层；

在所述缓冲层对应所述遮光层的位置上形成多个薄膜晶体管；

在所述基底或所述缓冲层上形成间隔设置的多个色阻单元，所述薄膜晶体管位于两相邻的色阻单元之间；

于所述色阻单元和薄膜晶体管上形成平坦层和像素电极层。

9.如权利要求8所述的阵列基板的制作方法，其特征在于，当多个所述色阻单元形成于所述基底上时，所述“在所述基底或所述缓冲层上形成间隔设置的多个色阻单元”的步骤，包括：

对所述缓冲层进行蚀刻，蚀刻掉所述薄膜晶体管两侧的缓冲层；

在所述基底上直接形成多个所述色阻单元。

10.一种显示面板，包括阵列基板、OLED发光层和封装件，所述OLED发光层设于所述阵列基板上，所述封装件设于所述OLED发光层上，其特征在于，所述阵列基板采用如权利要求1至7中任一项所述的阵列基板。