[发明专利]阵列基板及其制作方法、显示面板

说明书

本申请公开了一种阵列基板及其制作方法、显示面板。其中，所述阵列基板分为透光区和非透光区；所述阵列基板包括基底和薄膜晶体管层，所述薄膜晶体管层设于所述基底上；所述薄膜晶体管层包括对应于非透光区的薄膜晶体管部和对应于透光区的色阻部；所述色阻部直接设于所述基底；或，所述色阻部与所述基底设有无机膜层或有机膜层，所述无机膜层或有机膜层的总层数小于等于1。本申请技术方案的阵列基板可减少光波导现象，提高背面发光的亮度和出光量。

技术领域

本申请涉及显示面板技术领域，特别涉及一种阵列基板及其制作方法、显示面板。

背景技术

有机电激光显示（OLED，Organic Light-Emitting Diode），又称有机发光半导体（Organic Electroluminescence Display，OLED），因具有低功耗、响应速度快且较宽的视角等优势，获得了较为广泛的应用。其中，OLED显示面板为背面发光时，从发光层发出的光会向阵列基板（TFT侧）释放光，光穿透阵列基板后在基底上形成画面。而阵列基板上的薄膜晶体管是不透光的，光只能从透光窗释放，而透光区的穿透效率直接影响发光亮度。

现有的阵列基板结构中，子色阻与基板之间存在多层无机膜层，由于无机膜层间的折射率存在差异，会使得多层无机膜层间出现波导效应，原本从阵列基板背面发出的光会向边缘位置释放，从而造成背面发光亮度降低。

发明内容

本申请的主要目的是提出一种阵列基板，旨在解决背面发光的OLED显示面板发光亮度低的问题。

为实现上述目的，本申请提出的阵列基板分为透光区和非透光区；所述阵列基板包括基底和薄膜晶体管层，所述薄膜晶体管层设于所述基底上；所述薄膜晶体管层包括对应于非透光区的薄膜晶体管部和对应于透光区的色阻部；所述色阻部直接设于所述基底；

或，所述色阻部与所述基底设有无机膜层或有机膜层，所述无机膜层或有机膜层的总层数等于1。

在本申请的一实施例中，所述基底和所述薄膜晶体光管层之间设有遮光层和第一缓冲层，所述遮光层设于所述基底对应所述薄膜晶体管部的位置上，所述第一缓冲层设于所述遮光层和所述基底上，所述色阻部设于所述第一缓冲层。

在本申请的一实施例中，所述薄膜晶体管部和第一缓冲层之间还设有第二缓冲层。

在本申请的一实施例中，当所述色阻部直接设于所述基底，所述薄膜晶体管部和所述基底之间依次设有遮光层、第一缓冲层和第二缓冲层。

在本申请的一实施例中，所述薄膜晶体管部包括依次叠设的有源层、栅极绝缘层、栅极、有机绝缘层，还包括设于所述有机绝缘层的且间隔设置的源极与漏极；所述源极与漏极分别通过所述有机绝缘层的过孔和所述有源层连接。

在本申请的一实施例中，所述第一缓冲层的折射率范围为1.0~1.2。

在本申请的一实施例中，所述色阻部由红色色阻单元、绿色色阻单元和蓝色色阻单元构成；

或，所述色阻部由红色色阻单元、绿色色阻单元、蓝色色阻单元及白色色阻单元构成。

本申请还提出一种阵列基板的制作方法，所述阵列基板的制作方法包括以下步骤：

提供一基底，在所述基底上形成遮光层；

在所述遮光层上形成缓冲层；

在所述缓冲层对应所述遮光层的位置上形成多个薄膜晶体管；

在所述基底或所述缓冲层上形成间隔设置的多个色阻单元，所述薄膜晶体管位于两相邻的色阻单元之间；

于所述色阻单元和薄膜晶体管上形成平坦层和像素电极层。

在本申请的一实施例中，当多个所述色阻单元形成于所述基底上时，所述“在所述基底或所述缓冲层上形成间隔设置的多个色阻单元”的步骤，包括：

对所述缓冲层进行蚀刻，蚀刻掉所述薄膜晶体管两侧的缓冲层；