[发明专利]一种三层共挤高耐磨聚醚醚酮复合薄膜及其制备方法有效
申请号: | 202111236737.X | 申请日: | 2021-10-23 |
公开(公告)号: | CN113954471B | 公开(公告)日: | 2022-07-05 |
发明(设计)人: | 林善华;张笋 | 申请(专利权)人: | 佛山市达孚新材料有限公司 |
主分类号: | B32B27/28 | 分类号: | B32B27/28;B32B27/06;B32B27/18;B32B27/20;B32B33/00;C08L61/16;C08L83/04;C08K3/36;C08K7/18;C08K3/04;C08J5/18;C01B32/16;B29C48/21;B29L7/00 |
代理公司: | 北京维正专利代理有限公司 11508 | 代理人: | 姚启政 |
地址: | 528200 广东省佛*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 三层 共挤高 耐磨 聚醚醚酮 复合 薄膜 及其 制备 方法 | ||
1.一种三层共挤高耐磨聚醚醚酮复合薄膜,其特征在于:包括芯层和分别复合于芯层上、下表面的耐磨外层,所述芯层主要由PEEK树脂制备而成;所述耐磨外层由以下质量百分比的原料制备而成:1.8-2.5%的纳米二氧化硅母粒、2.0-4.0%的超高分子量硅酮母粒、0.8-10.0%的功能助剂、余量为PEEK树脂;所述功能助剂包括0.3-2%的抗氧化剂1024和0.5-2%的抗氧化剂DLTP;所述芯层的厚度与单层所述耐磨外层的厚度比为8:1;所述三层共挤高耐磨聚醚醚酮复合薄膜的制备方法,包括以下步骤:
步骤一,将PEEK树脂置于110-120℃下干燥至少4小时,备用,将纳米二氧化硅母粒、超高分子量硅酮母粒置于75-85℃下干燥至4小时,备用,将完成干燥的PEEK树脂和纳米二氧化硅母粒、超高分子量硅酮母粒、功能助剂,按照配比投入高速混料机混合均匀,得混合料;
步骤二,将步骤一中制备的混合料投入单螺杆挤出机A,得改性PEEK熔体,将芯层树脂原料投入单螺杆挤出机B,得芯层树脂熔体,单螺杆挤出机温度A温度设置为360±5℃,转速为10r/min;单螺杆挤出机B温度设置为380±5℃,转速为40r/min,挤出机A中的改性PEEK熔体经过连接管到模头分配器,然后平均分到模头分配器上下两个流道,模头分配器中间流道为芯层树脂熔体,三层熔体通过模头复合共挤流延到压辊、铸片辊、剥离辊,模头温度380±5℃,压辊的温度为180℃,铸片辊温度为200-220℃,剥离辊温度为200℃,压辊、铸片辊和剥离辊之间的速度比例是1:1:1;
步骤三,经过剥离辊剥离下来的薄膜经经牵引辊牵引,自动测厚仪测量厚薄均匀度,冷却定型,收卷,得成品。
2.根据权利要求1所述的一种三层共挤高耐磨聚醚醚酮复合薄膜,其特征在于:所述耐磨外层由以下质量百分比的原料制备而成:1.8-2.2%的纳米二氧化硅母粒、2.8-3.2%的超高分子量硅酮母粒、0.3-2%的抗氧化剂1024、0.5-2%的抗氧化剂DLTP、90.0-95.0%的PEEK树脂。
3.根据权利要求1所述的一种三层共挤高耐磨聚醚醚酮复合薄膜,其特征在于:所述芯层由以下质量百分比的原料制备而成:92-98%的PEEK树脂、余量为第一光预聚物;所述功能助剂包括抗氧化剂1024、抗氧化剂DLTP、光引发剂、第二光预聚物;所述耐磨外层由以下质量百分比的原料制备而成:2.0%的纳米二氧化硅母粒、3.0%的超高分子量硅酮母粒、0.4%的抗氧化剂1024、0.6%的抗氧化剂DLTP、90-92%的PEEK树脂、0.1-0.5%的光引发剂、1.5-3.9%的第二光预聚物。
4.根据权利要求1所述的一种三层共挤高耐磨聚醚醚酮复合薄膜,其特征在于:所述芯层由以下质量百分比的原料制备而成:90-95%的PEEK树脂、1.0-2.0%的第一光预聚物、余量为球形氧化铝-碳纳米管填料;所述功能助剂包括抗氧化剂1024、抗氧化剂DLTP、球形氧化铝-碳纳米管填料、光引发剂、第二光预聚物;所述耐磨外层由以下质量百分比的原料制备而成:2.0%的纳米二氧化硅母粒、3.0%的超高分子量硅酮母粒、0.4%的抗氧化剂1024、0.6%的抗氧化剂DLTP、84-90%的PEEK树脂、3-6%的球形氧化铝-碳纳米管填料、0.1-0.5%的光引发剂、余量为第二光预聚物。
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