[发明专利]分栅存储器阵列结构及操作方法在审

专利信息
申请号: 202111270187.3 申请日: 2021-10-29
公开(公告)号: CN114023364A 公开(公告)日: 2022-02-08
发明(设计)人: 王宁;张可钢 申请(专利权)人: 上海华虹宏力半导体制造有限公司
主分类号: G11C16/04 分类号: G11C16/04;G11C16/08;G11C16/24
代理公司: 上海浦一知识产权代理有限公司 31211 代理人: 焦健
地址: 201203 上海市浦东*** 国省代码: 上海;31
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 存储器 阵列 结构 操作方法
【权利要求书】:

1.一种分栅存储器阵列结构,其特征在于:所述的分栅存储器阵列结构由多个结构相同的存储单元组成,在X方向和Y方向上分布形成存储阵列;所述存储阵列放置于阱中;各个所述的存储单元为分栅结构形成选择管和存储管,包含一个选择栅以及一个存储栅;

在所述的存储阵列中,在Y方向上,每相邻的两个存储单元采用共源连接,即每相邻的两个存储单元的选择管共享源区;共源相邻的两个存储单元的两个选择栅短接之后接X方向的选择栅字线WL;每共源相邻的两个存储单元的存储栅分别接存储栅字线WLSa、WLSb;

所述存储阵列中位于同一列上的所有存储管的漏极均与对应该列的Y方向的位线BL连接。

2.如权利要求1所述的分栅存储器阵列结构,其特征在于:所述的存储单元中的分栅结构形成选择管和存储管,存储管和选择管共享一个沟道,省去中间的源/漏区;共源连接的相邻的两个存储单元中,两个选择管的源区共享,减少了两个往外引出的接触孔;在Y方向上只需一条位线BL。

3.如权利要求1所述的分栅存储器阵列结构,其特征在于:所述的存储管为SONOS存储管。

4.如权利要求1所述的分栅存储器阵列结构,其特征在于:在对存储阵列进行数据的擦除、编程或者读出时,对阱分别施加对应的不同的电压值。

5.如权利要求1所述的分栅存储器阵列结构的操作方法,其特征在于:所述的存储阵列在数据擦除和编程时采用page操作模式;读取时,给选中的目标存储单元的选择栅字线加压,并将与选中的目标存储单元共源相邻的存储单元的存储管关断,此时读取目标存储单元的位线中的电流以获得目标存储单元的状态;

进行数据擦除时,需要进行数据擦除的目标存储单元的选择栅字线接电压Vpos,目标存储单元的存储栅字线接电压Vneg,存储阵列中其余的所有存储单元的存储栅字线以及选择栅字线接电压Vpos,同一行上的选中擦除的存储单元的存储管字线接电压Vneg,其他存储单元的存储管字线接电压Vpos。

6.如权利要求5所述的分栅存储器阵列结构的操作方法,其特征在于:进行数据读取时,阱的电压为Vgnd,给选中的目标存储单元的选择栅字线施加电压Vpwr,以及给选中的目标存储单元的存储栅字线接地Vgnd,同时关断与选中存储单元共源相邻的存储单元的存储管,读取选中的目标存储单元的位线中的电流即可获得选中的目标存储单元的状态;读取时,存储阵列中选中的存储单元所在行的选择栅电压为Vpwr,非选中行的存储单元的选择栅字线电压以及存储栅字线电压均为Vgnd,选中的目标存储单元的存储栅电压为Vgnd,与选中的存储单元共源相邻的存储栅字线电压为Vnegr,选中的存储单元所在的列位线电压为Vgnd,其余列的位线为浮空状态,此时读取选中的存储单元的位线电流即可获得目标存储单元的状态。

7.如权利要求5所述的分栅存储器阵列结构的操作方法,其特征在于:对所述的存储阵列进行编程时,为page操作模式,此时阱电压为Vneg,存储阵列中选择栅字线电压均为Vneg,目标存储单元的存储栅的字线电压为Vpos,非目标行上的存储单元的存储栅的字线电压为Vneg;存储阵列中位线电压分为编程“1”和编程“0”两种状态:编程“1”时位线电压为Vneg,编程“0”时位线电压为Vbl。

8.如权利要求1-7任一项所述的分栅存储器阵列结构的操作方法,其特征在于:所述的电压Vpos>Vbl>Vgnd=0>Vnegr>Vneg,Vpwr>Vgnd。

9.如权利要求8所述的分栅存储器阵列结构的操作方法,其特征在于:所述的Vpos为7V,Vneg为-4V,Vbl为1.2V,Vnegr为-1.5V,Vpwr为1.5V。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海华虹宏力半导体制造有限公司,未经上海华虹宏力半导体制造有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202111270187.3/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top