[发明专利]一种用于异形屏的掩膜条结构及其制造工艺

权利要求书

1.一种用于异形屏的掩膜条结构，包括掩膜条板材（2），其特征在于：所述掩膜条板材（2）上设有若干组等间距分布的有效区域（1），所述有效区域（1）为石英光罩，所述有效区域（1）外侧设有包围层，包围层为蚀刻区域（6），蚀刻区域（6）呈矩形设置，所述有效区域（1）与对应的蚀刻区域（6）之间为缓冲区域（7），所述有效区域（1）内均匀分布有若干组贯穿孔（3），所述缓冲区域（7）内均匀分布有若干组非贯穿孔（5）。

2.根据权利要求1所述的一种用于异形屏的掩膜条结构，其特征在于：所述掩膜条板材（2）采用金属INVAR36材质制成，其厚度为20-100um。

3.根据权利要求1所述的一种用于异形屏的掩膜条结构，其特征在于：所述非贯穿孔（5）表面为残留层（4），其厚度为1-3um。

4.一种权利要求1-3任意一项所述的用于异形屏的掩膜条结构的制造工艺，其特征在于：具体包括以下步骤：

S1、采用主流材质制造掩膜条板材（2），目前主流采用金属INVAR36材质，厚度为20-100um，不设限；

S2、设计第一组有效区域（1）的石英光罩，确认有效区域（1）为异形屏；

S3、设计第二组缓冲区域（7）的石英光罩，确认缓冲区域（7）为异形屏四周的包围层，且包围层的蚀刻面积不设限制；

S4、采用第一组有效区域（1）的石英光罩，对掩膜条板材（2）进行正面蚀刻；

S5、采用第一组有效区域（1）的石英光罩，对掩膜条板材（2）进行背面蚀刻，需确认本次双面的蚀刻区域（6）为贯穿孔（3）；

S6、完成异形屏有效区域（1）的贯穿孔（3）工艺，确认实际可蒸镀范围为目标异形屏；

S7、采用第二组缓冲区域（7）的石英光罩，对掩膜条板材（2）进行正面蚀刻；

S8、采用第二组缓冲区域（7）的石英光罩，需进行蚀刻药液量减少调整，对掩膜条板材（2）进行背面蚀刻；

S9、完成异形屏包围层缓冲区域（7）的非贯穿孔（5）工艺，非贯穿孔（5）的残留层（4）的厚度为1-3um；

S10、掩膜条板材（2）的蚀刻区域（6）的制程工艺结束。