[发明专利]一种磁控折射率光学薄膜的制备方法在审
申请号: | 202111409167.X | 申请日: | 2021-11-25 |
公开(公告)号: | CN114226198A | 公开(公告)日: | 2022-03-25 |
发明(设计)人: | 张遒姝;彭倍;文盼;郭志浩 | 申请(专利权)人: | 电子科技大学 |
主分类号: | B05D5/06 | 分类号: | B05D5/06;B05D7/24;B05D1/00;B05D3/02;B05D3/00;G02B1/10 |
代理公司: | 电子科技大学专利中心 51203 | 代理人: | 邓黎 |
地址: | 611731 四川省成*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 折射率 光学薄膜 制备 方法 | ||
1.一种磁控折射率光学薄膜的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:
S1.将质量比为10:1-1.5的PDMS预聚物和固化剂混合,得到PDMS混合物;
S2.将步骤S1所得PDMS混合物与有机溶剂按质量比为1:1-1.2的比例充分混合,获得PDMS混合溶液;
S3.在步骤S2所得PDMS混合溶液中加入磁性纳米颗粒,磁性纳米颗粒的质量百分含量范围为0.5%-2.5%;混合方式为:首先用玻璃棒搅拌1-5分钟,然后放置于超声波振荡器中振荡10-30分钟,最后使用涡旋混匀器振荡1-3分钟,得到PDMS-磁性纳米颗粒混合溶液;
S4.将基片放入清洗液中,使用超声波清洗器清洗,然后烘干备用;
S5.将步骤S4的基片放置于匀胶机样品台中心位置固定,取步骤S3获得的PDMS-磁性纳米颗粒混合溶液滴于硅基片中心部位进行旋涂,得到厚度为4-500微米的PDMS-磁性纳米颗粒复合材料未固化涂膜;
S6.将步骤S5获得的PDMS-磁性纳米颗粒复合材料未固化涂膜置于恒温箱中进行固化处理,待涂膜完全固化后即获得磁控折射率光学薄膜。
2.如权利要求1所述的一种磁控折射率光学薄膜的制备方法,其特征在于,所述磁性纳米颗粒为四氧化三铁或羰基铁。
3.如权利要求2所述的一种磁控折射率光学薄膜的制备方法,其特征在于,进行固化处理时,温度设置为50-100℃,时间设置为24-36小时。
4.如权利要求2所述的一种磁控折射率光学薄膜的制备方法,其特征在于,步骤S2中所述有机溶剂为甲苯、氯仿、或氯苯。
5.如权利要求2所述的一种磁控折射率光学薄膜的制备方法,其特征在于,步骤S4中所述基片为硅基片、SU-8片、玻璃片或石英片。
6.如权利要求2所述的一种磁控折射率光学薄膜的制备方法,其特征在于,步骤S4中所述清洗液为甲苯或丙酮。
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