[发明专利]电芬顿装置和处理污染物的方法有效
申请号: | 202111412533.7 | 申请日: | 2021-11-25 |
公开(公告)号: | CN114229968B | 公开(公告)日: | 2023-03-14 |
发明(设计)人: | 李景虹;高文彬;张弓 | 申请(专利权)人: | 清华大学 |
主分类号: | C02F1/467 | 分类号: | C02F1/467;C02F1/461;C02F101/30 |
代理公司: | 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201 | 代理人: | 花丽 |
地址: | 10008*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 电芬顿 装置 处理 污染物 方法 | ||
1.一种电芬顿装置,其特征在于,包括电源、双室电解池、质子交换膜、阴极和阳极,所述阴极包括衬底和位于所述衬底表面的阴极催化层,形成所述阴极催化层的材料包括钯钛合金,所述钯钛合金的化学式为:PdxTi1-x,其中,0.4≤x≤0.95;形成所述阳极的材料为石墨片;
所述双室电解池用于容纳电解液,所述质子交换膜将所述双室电解池分为阴极室和阳极室,所述阴极位于所述阴极室中,所述阳极位于所述阳极室中;
所述阴极室中容纳有过氧化氢;
所述阴极催化层的厚度为40-400nm;
形成所述衬底的材料包括石墨片;
所述阴极是通过多靶位磁控共溅射方式形成的;
所述阴极通过以下方式制备得到:以石墨片为沉积衬底,以直流电源连接钯金属靶材,以射频电源连接钛金属靶材,得到钯钛合金薄膜;随后在热处理气氛中进行退火处理。
2.根据权利要求1所述的电芬顿装置,其特征在于,所述钯金属靶材的溅射功率为50-300 W,所述钯金属靶材的溅射时间为5-30 min,所述钛金属靶材的溅射功率为50-400 W,所述钛金属靶材的溅射时间为5-30 min;
所述热处理气氛包括氮气、氢气和氧气中的至少一种;
所述热处理的时间小于等于120 min。
3.一种处理污染物的方法,其特征在于,所述方法包括:将污染物加入权利要求1或2所述的电芬顿装置的阴极室中;
对阴极和阳极之间施加电压,所述阴极产生原子氢;
所述原子氢与过氧化氢发生反应,产生羟基自由基;
所述羟基自由基与所述污染物发生反应。
4.根据权利要求3所述的方法,其特征在于,所述阴极的电位相较于饱和甘汞电极为-0.5 V ~ -1.2 V。
5.根据权利要求3所述的方法,其特征在于,所述过氧化氢的浓度为4~100 mmol/L。
6.根据权利要求3所述的方法,其特征在于,电解液的pH值为2~12。
7.根据权利要求3所述的方法,其特征在于,所述污染物包括有机污染物和微生物,所述有机污染物包括苯酚、苯甲酸、苯胺、双酚A和2-氯苯酚中的至少一种。
8.根据权利要求7所述的方法,其特征在于,所述有机污染物的浓度为10~ 200μmol/L。
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