[发明专利]一种基于典型功耗分析的集成电路保留指令测试电路在审

专利信息
申请号: 202111449125.9 申请日: 2021-11-30
公开(公告)号: CN114236347A 公开(公告)日: 2022-03-25
发明(设计)人: 王贺;屈若媛;张红旗;张大宇;唐章东;王征;宁永成;张松;崔华楠;李健焘;吉美宁;梁培哲 申请(专利权)人: 中国空间技术研究院
主分类号: G01R31/28 分类号: G01R31/28
代理公司: 中国航天科技专利中心 11009 代理人: 任林冲
地址: 100194 *** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 基于 典型 功耗 分析 集成电路 保留 指令 测试 电路
【说明书】:

发明涉及一种基于典型功耗分析的集成电路保留指令测试电路,包括计算机、测试机、采样元件、调理电路、功耗采集单元和被测电路;测试机包括:数字通道A、直流源、数字通道B和GND/DGS;功耗采集单元包括2路采集通道:通道A和通道B,两通道公用一路参考端;被测电路包括:电源端口VCC、指令集输入总线I/O和地端口GND;计算机通过总线A与测试机相连,通过总线B与功耗采集单元相连;测试机的数字通道A连到功耗采集单元通道A。本发明采用数据相关性分析方法对集成电路功耗曲线进行一致性分析,从量级和时间两个维度分析集成电路在接收不同指令时的功耗变化,从而在黑盒状态下实现集成电路有效指令集的筛选。

技术领域

本发明涉及一种基于典型功耗分析的集成电路保留指令测试电路,属于集成电路芯片测试技术领域。

背景技术

随着集成电路设计制造的全球化发展,其生产阶段的分工越来越细化,这为恶意攻击者在集成电路上植入后门提供了条件。例如,当前EDA软件主要是进口软件,在集成电路由HDL级代码生成门级物理版图时,可以在设计者不知情的情况下自动植入后门。又比如,集成电路的制造主要由第三方Foundry厂商完成,在芯片从软件版图转为硬件掩膜时,恶意攻击者可以在芯片外围边界修改掩膜来植入后门。恶意攻击者可以通过保留指令来激活后门,实现对集成电路的信息采集和控制,这将严重影响集成电路的使用安全。

集成电路的后门检测有较大技术难度,特别是设计制造阶段植入的后门很难通过常规的电测试平台及方法检测到,其原因在于:

(1)对于一个植入后门,一般需要在特定端口中输入特殊保留指令后才能激活,电路手册中给出的常规指令功能测试无法激活后门,而直接猜测可行的端口与保留指令通常是徒劳的。黑盒测试是较为可行的实施方式,对电路部分或全部IO端口进行有限遍历测试或随机指令测试。由于测试向量指令集的总量可能非常庞大,因此需要测试系统具有灵活的指令总线接口、足够的指令集向量深度和高度的自动化执行能力。

(2)常规的集成电路功耗测试主要分为静态及动态电源电流测试,前者是电路处于待机状态下的漏电流,后者是电路处于某种特定工作状态下时随机抓取的一个或多个时间点电流的平均值。而保留指令激活后门所产生的电路功耗变化可能是瞬态的或短时阶段性的,传统的电路电源电流测试无法有效检测出该特性。

(3)采用黑盒测试方法对被测电路进行检测,一般需要进行大量的重复激励、测量与数据分析。为保证数据分析的有效性,对被测电路激励与功耗采集触发时序的一致性有很高要求,基于非实时操作系统的软件触发采集控制一般无法达到理想的时序一致性。

发明内容

本发明解决的技术问题是:克服现有技术的不足,提出一种基于典型功耗分析的集成电路保留指令测试电路,实现舰载导弹的快速实战化发射,有效提高舰载武器的实战能力和作战效能。

本发明解决技术的方案是:

一种基于典型功耗分析的集成电路保留指令测试电路,包括计算机、测试机、采样元件、调理电路、功耗采集单元和被测电路;

测试机包括:数字通道A、直流源、数字通道B和GND/DGS;

功耗采集单元包括2路采集通道:通道A和通道B,两通道公用一路参考端;

被测电路包括:电源端口VCC、指令集输入总线I/O和地端口GND;

计算机通过总线A与测试机相连,通过总线B与功耗采集单元相连;

测试机的数字通道A连到功耗采集单元通道A;测试机的直流源连到采样元件前端;测试机的数字通道B连到被测电路的I/O端口;测试机的GND/DGS连到被测电路的GND端口;

采样元件后端与被测电路VCC以及调理电路输入端口相连;

调理电路的输出端口,连到功耗采集单元的通道B;

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国空间技术研究院,未经中国空间技术研究院许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202111449125.9/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top